发明授权
- 专利标题: 三维存储器件及其制造方法
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申请号: CN201810759498.8申请日: 2018-07-11
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公开(公告)号: CN108933142B公开(公告)日: 2019-10-29
- 发明人: 孙坚华 , 陶谦 , 郭美澜 , 唐志武 , 邵明 , 夏季
- 申请人: 长江存储科技有限责任公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
- 专利权人: 长江存储科技有限责任公司
- 当前专利权人: 长江存储科技有限责任公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 骆希聪
- 主分类号: H01L27/11551
- IPC分类号: H01L27/11551 ; H01L27/11578
摘要:
本发明提供了一种三维存储器件及其制造方法。该三维存储器件,包括核心区和阶梯区,所述阶梯区包括:与阶梯区的延伸面垂直的栅极隔离结构;以及与阶梯区的延伸面垂直并且与栅极隔离结构相邻的虚拟沟道结构;其中,以栅极隔离结构的上表面和虚拟沟道结构的上表面的其中一个作为参考平面,栅极隔离结构的上表面和虚拟沟道结构的上表面的另一个不低于参考平面,虚拟沟道结构的最大特征尺寸位于虚拟沟道结构的第一位置,栅极隔离结构的最大特征尺寸位于栅极隔离结构的第二位置,第一位置和/或第二位置位于参考平面的下方。本发明的三维存储器件及其制造方法降低了虚拟沟道结构和栅极隔离结构之间的短路风险。
公开/授权文献
- CN108933142A 三维存储器件及其制造方法 公开/授权日:2018-12-04
IPC分类: