- 专利标题: 基于石墨烯衬底的LED外延结构及生长方法和LED
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申请号: CN201810552223.7申请日: 2018-05-31
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公开(公告)号: CN108767079B公开(公告)日: 2020-05-22
- 发明人: 田宇 , 颜慧 , 韩效亚 , 杜石磊
- 申请人: 扬州乾照光电有限公司
- 申请人地址: 江苏省扬州市经济技术开发区东风河西路8号
- 专利权人: 扬州乾照光电有限公司
- 当前专利权人: 扬州乾照光电有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省扬州市经济技术开发区东风河西路8号
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 王宝筠
- 主分类号: H01L33/12
- IPC分类号: H01L33/12 ; H01L33/32 ; H01L33/02 ; H01L33/00
摘要:
本发明公开了一种基于石墨烯衬底的LED外延结构及生长方法和LED,石墨烯衬底包括基底和位于基底一侧表面的石墨烯层,生长于石墨烯衬底上的缓冲层,缓冲层包括生长于石墨烯层背离基底一侧表面的缓冲子层,缓冲子层为AlN缓冲子层、GaN缓冲子层、InGaN缓冲子层或AlGaInN缓冲子层;依次叠加生长于缓冲层上的N型GaN层、有源层和P型GaN层。本发明提供的技术方案,在石墨烯衬底上生长LED外延结构的缓冲层,降低LED外延结构和石墨烯衬底之间的晶格失配,及降低石墨烯衬底和LED外延结构之间的应力,进而能够制备高晶体质量的LED外延结构,进而有效降低极化电场,降低能带的弯曲,增加电子与空穴的复合效率。
公开/授权文献
- CN108767079A 基于石墨烯衬底的LED外延结构及生长方法和LED 公开/授权日:2018-11-06
IPC分类: