发明公开
- 专利标题: 半导体管芯切割及由此形成的结构
- 专利标题(英): Semiconductor die singulation and structures formed thereby
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申请号: CN201710629551.8申请日: 2017-07-28
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公开(公告)号: CN107665819A公开(公告)日: 2018-02-06
- 发明人: 张富程 , 黄震麟 , 陈文明
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权: 62/368,736 2016.07.29 US
- 主分类号: H01L21/304
- IPC分类号: H01L21/304 ; H01L21/78 ; H01L27/02
摘要:
一种示例性方法包括提供晶圆,该晶圆包括第一集成电路管芯、第二集成电路管芯以及位于第一集成电路管芯和第二集成电路管芯之间的划线区。该方法还包括在划线区中形成切口,并且在形成切口之后,使用机械锯切工艺将第一集成电路管芯与第二集成电路管芯完全分离。该切口延伸穿过多个介电层进入到半导体衬底中。本发明实施例涉及半导体管芯切割及由此形成的结构。
公开/授权文献
- CN107665819B 半导体管芯切割及由此形成的结构 公开/授权日:2020-03-31
IPC分类: