发明授权
- 专利标题: 粗糙化处理铜箔、覆铜层叠板和印刷电路板
-
申请号: CN201680031199.1申请日: 2016-06-16
-
公开(公告)号: CN107614760B公开(公告)日: 2018-07-13
- 发明人: 小畠真一 , 立冈步 , 吉川和广
- 申请人: 三井金属矿业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三井金属矿业株式会社
- 当前专利权人: 三井金属矿业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权: 2015-134707 2015.07.03 JP
- 国际申请: PCT/JP2016/067972 2016.06.16
- 国际公布: WO2017/006739 JA 2017.01.12
- 进入国家日期: 2017-11-28
- 主分类号: C25D7/06
- IPC分类号: C25D7/06 ; B32B15/08 ; B32B15/20 ; C25D5/16 ; H05K1/09
摘要:
本发明可提供在覆铜层叠板的加工或印刷电路板的制造中能够兼顾微细电路形成性(尤其电路直线性)和与树脂的密合性的粗糙化处理铜箔。本发明的粗糙化处理铜箔在至少一侧具有粗糙化处理面,前述粗糙化处理面的依据ISO25178所测定的算术平均高度Sa(μm)与峰的顶点密度Spd(个/mm2)的乘积即Sa×Spd为250000μm/mm2以上,且依据JIS B0601‑2001所测定的算术平均波纹度Wa为0.030~0.060μm。
公开/授权文献
- CN107614760A 粗糙化处理铜箔、覆铜层叠板和印刷电路板 公开/授权日:2018-01-19