- 专利标题： 基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质
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申请号： CN201710414430.1申请日： 2017-06-05
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公开(公告)号： CN107492511B公开(公告)日： 2022-01-11
- 发明人: 田中裕司 , 平山司 , 稻田尊士
- 申请人： 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇
- 优先权： 2016-115601 20160609 JP
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67 ; H01L21/306
摘要：
本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。不改变磷酸水溶液的浓度地将磷酸水溶液的沸腾状态保持固定，实现蚀刻均匀性。基板液处理装置(1)具有液处理部(39)、处理液循环线(42)以及调整设置于液处理部(39)的处理槽(34)的沸腾状态检测部(70)。控制部(7)基于来自沸腾状态检测部(70)的信号对处理液循环线(42)的供给泵(51)进行控制来对供给的流路内的磷酸水溶液的压力进行调整，从而将磷酸水溶液的沸腾状态调整为期望的状态。
公开/授权文献
- CN107492511A 基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质 公开/授权日：2017-12-19
IPC分类:
