发明公开
- 专利标题: 半导体装置及半导体装置的制造方法
- 专利标题(英): SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
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申请号: CN201710096125.2申请日: 2017-02-22
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公开(公告)号: CN107204292A公开(公告)日: 2017-09-26
- 发明人: 浅井龙彦 , 谷口克己
- 申请人: 富士电机株式会社
- 申请人地址: 日本神奈川县川崎市
- 专利权人: 富士电机株式会社
- 当前专利权人: 富士电机株式会社
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县川崎市
- 代理机构: 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 孙昌浩; 李盛泉
- 优先权: 2016-056246 20160318 JP
- 主分类号: H01L21/52
- IPC分类号: H01L21/52 ; H01L21/56 ; H01L23/04 ; H01L23/043 ; H01L23/31
摘要:
本申请提供一种半导体装置及半导体装置的制造方法。能够缓和由热膨胀率之差导致的集中于树脂壳体内表面的角部附近的应力,满足层叠基板与树脂壳体之间的绝缘性。上述半导体装置具有将树脂壳体(6)与层叠组件组合而成的构成,上述层叠组件具有:半导体元件(1);搭载有上述半导体元件(1)的层叠基板(3);以及搭载有上述层叠基板(3)的金属基板(4)。在树脂壳体(6)中,在角部设有切槽(6a)。切槽(6a)的宽度和长度中的至少一个为2mm以上。
公开/授权文献
- CN107204292B 半导体装置及半导体装置的制造方法 公开/授权日:2021-09-14
IPC分类: