发明授权
- 专利标题： 表膜附接设备
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申请号： CN201580062459.7申请日： 2015-11-16
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公开(公告)号： CN107111224B公开(公告)日： 2021-05-07
- 发明人: F·范德穆伦 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , R·H·G·克莱默 , M·克鲁兹恩卡 , R·G·M·兰斯勃根 , M·H·A·李德斯 , 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 , G·范德博世 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克 , J·M·丁斯 , M·L·J·杨森 , R·J·J·克尔斯滕斯 , M·J·M·克斯特斯 , M·卢斯 , G·米德尔 , S·M·赖纳德斯 , F·J·C·托伊尔蔡特 , A·J·W·范利芬根
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 张启程
- 优先权： 62/080,561 20141117 US 62/108,348 20150127 US 62/110,841 20150202 US 62/126,173 20150227 US 62/149,176 20150417 US 62/183,342 20150623 US
- 国际申请： PCT/EP2015/076688 2015.11.16
- 国际公布： WO2016/079052 EN 2016.05.26
- 进入国家日期： 2017-05-17
- 主分类号： G03F1/62
- IPC分类号： G03F1/62 ; G03F7/20
摘要：
用于适合于光刻过程中使用的掩模组件的加工，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装于所述图案形成装置上；其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供可释放式的可接合附接。
公开/授权文献
- CN107111224A 设备 公开/授权日：2017-08-29
