发明授权
- 专利标题： 制造图案化基底的方法
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申请号： CN201580059713.8申请日： 2015-09-30
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公开(公告)号： CN107077066B9公开(公告)日： 2021-05-14
- 发明人: 具世真 , 李美宿 , 柳亨周 , 金廷根 , 尹圣琇 , 朴鲁振 , 李济权 , 崔银英
- 申请人： 株式会社LG化学
- 申请人地址： 韩国首尔
- 专利权人： 株式会社LG化学
- 当前专利权人： 株式会社LG化学
- 当前专利权人地址： 韩国首尔
- 代理机构： 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 顾晋伟; 赵丹
- 优先权： 10-2014-0131964 20140930 KR 10-2014-0175411 20141208 KR 10-2014-0175414 20141208 KR 10-2014-0175410 20141208 KR 10-2014-0175415 20141208 KR 10-2014-0175412 20141208 KR 10-2014-0175413 20141208 KR 10-2014-0175407 20141208 KR 10-2014-0175406 20141208 KR 10-2014-0175400 20141208 KR 10-2014-0175401 20141208 KR 10-2014-0175402 20141208 KR 10-2015-0079469 20150604 KR
- 国际申请： PCT/KR2015/010330 2015.09.30
- 国际公布： WO2016/053007 KO 2016.04.07
- 进入国家日期： 2017-05-03
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; C07C43/215 ; C07C43/225 ; C07C217/84 ; C07D209/48 ; C07F7/18 ; C08F12/20 ; C08F12/22 ; C08F12/26 ; C08F12/32 ; C08F212/14 ; C08F220/10 ; C08F220/30 ; C08F293/00 ; C08F297/00 ; C08F299/00 ; C08J5/18 ; C08L53/00 ; C08L55/00
摘要：
提供了制造图案化基底的方法。该方法可以应用于装置如电子器件或集成电路的制造过程，或者应用于另一些用途例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、LCD、薄膜磁头或有机发光二极管；并且该方法可用于在用来制造离散磁道介质如集成电路、位元图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的表面上构造图案。
公开/授权文献
- CN107077066B 制造图案化基底的方法 公开/授权日：2021-04-02
