- 专利标题: 具有透明导电和低折射率栅极的MOS电容式光学调制器
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申请号: CN201580018242.6申请日: 2015-04-17
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公开(公告)号: CN106170865B公开(公告)日: 2019-11-01
- 发明人: 陈宏民 , 徐千帆 , 杨莉 , 沈晓安
- 申请人: 华为技术有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
- 专利权人: 华为技术有限公司
- 当前专利权人: 华为技术有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 杨文娟; 臧建明
- 优先权: 61/981,517 2014.04.18 US
- 国际申请: PCT/US2015/026386 2015.04.17
- 国际公布: WO2015/161207 EN 2015.10.22
- 进入国家日期: 2016-10-12
- 主分类号: H01L29/66
- IPC分类号: H01L29/66 ; H01L29/49 ; G02B6/13 ; G02F1/025 ; G02F1/015 ; H01L29/167 ; H01L29/06 ; H01L29/51 ; H01L29/94
摘要:
一种金属氧化物半导体(MOS)光学调制器,包括:具有波导结构的掺杂半导体层;设置在所述掺杂半导体层的波导结构上的介电层;设置在所述介电层上的栅极区,其中所述栅极区包括折射率比硅低的透明导电材料;以及设置在所述栅极区上的金属接触。所述金属接触、所述栅极区和所述掺杂半导体层的波导结构彼此可以垂直排列。
公开/授权文献
- CN106170865A 具有透明导电和低折射率栅极的MOS电容式光学调制器 公开/授权日:2016-11-30
IPC分类: