发明授权
- 专利标题: 用于纳米管MOSFET的端接设计
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申请号: CN201510418871.X申请日: 2015-07-16
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公开(公告)号: CN105304687B公开(公告)日: 2019-01-11
- 发明人: 管灵鹏 , 马督儿·博德 , 哈姆扎·耶尔马兹 , 卡西克·帕德马纳班
- 申请人: 万国半导体股份有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州94085桑尼维尔奥克米德大道475号
- 专利权人: 万国半导体股份有限公司
- 当前专利权人: 万国半导体国际有限合伙公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州94085桑尼维尔奥克米德大道475号
- 代理机构: 上海申新律师事务所
- 代理商 俞涤炯
- 优先权: 14/444,953 2014.07.28 US
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/861 ; H01L29/872 ; H01L29/732 ; H01L29/739 ; H01L21/329 ; H01L21/331 ; H01L21/336 ; H01L29/40 ; H01L29/808 ; H01L29/78
摘要:
本发明主要涉及半导体功率器件,功率器件的端接结构包括多个端接组,形成在第一导电类型的轻掺杂外延层中,在第二导电类型的重掺杂半导体衬底上方。每个端接组都包括一个形成在第一导电类型的轻掺杂外延层中的沟槽。沟槽所有的侧壁都被交替导电类型的多个外延层覆盖,多个外延层沉积在两个对边上,并且沟槽所有的侧壁都与作为第一导电类型的最深处导电类型的两个最里面外延层之间的中心缝隙填充层基本对称。
公开/授权文献
- CN105304687A 用于纳米管MOSFET的端接设计 公开/授权日:2016-02-03
IPC分类: