用于纳米管MOSFET的端接设计
摘要:
本发明主要涉及半导体功率器件,功率器件的端接结构包括多个端接组,形成在第一导电类型的轻掺杂外延层中,在第二导电类型的重掺杂半导体衬底上方。每个端接组都包括一个形成在第一导电类型的轻掺杂外延层中的沟槽。沟槽所有的侧壁都被交替导电类型的多个外延层覆盖,多个外延层沉积在两个对边上,并且沟槽所有的侧壁都与作为第一导电类型的最深处导电类型的两个最里面外延层之间的中心缝隙填充层基本对称。
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