Invention Publication
- Patent Title: 图案形成方法、磁记录介质的制造方法、以及磁记录介质
- Patent Title (English): Pattern forming method, method of manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium
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Application No.: CN201410037108.8Application Date: 2014-01-26
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Publication No.: CN104424966APublication Date: 2015-03-18
- Inventor: 渡部彰 , 菅原克也 , 泷泽和孝 , 木村香里
- Applicant: 株式会社东芝
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社东芝
- Current Assignee: 株式会社东芝
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 段承恩; 田欣
- Priority: 2013-186547 2013.09.09 JP
- Main IPC: G11B5/84
- IPC: G11B5/84 ; G03F7/00

Abstract:
本发明涉及图案形成方法、磁记录介质的制造方法、以及磁记录介质。使用自组装膜而形成密度高的微细图案。根据实施方式,反复进行2次或3次下述工序,与形成了1层的二嵌段共聚物层的情况相比提高凸图案的密度,所述工序是形成二嵌段共聚物层,相分离为海岛相,然后对海状相进行蚀刻的工序。
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