发明公开
- 专利标题: GaN基LED外延结构及其制造方法
- 专利标题(英): GaN base LED epitaxial structure and manufacturing method thereof
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申请号: CN201410299430.8申请日: 2014-06-27
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公开(公告)号: CN104332539A公开(公告)日: 2015-02-04
- 发明人: 曹永革 , 刘著光 , 邓种华 , 陈剑 , 李军廷 , 费斌杰 , 郭旺 , 唐飞 , 黄秋凤 , 袁轩一
- 申请人: 中国科学院福建物质结构研究所
- 申请人地址: 福建省福州市杨桥西路155号
- 专利权人: 中国科学院福建物质结构研究所
- 当前专利权人: 中国科学院福建物质结构研究所
- 当前专利权人地址: 福建省福州市杨桥西路155号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 倪斌
- 主分类号: H01L33/08
- IPC分类号: H01L33/08 ; H01L33/00
摘要:
本发明提出了一种GaN基LED外延结构及其制造方法。所述GaN基LED外延结构包括:衬底;在所述衬底上外延生长的GaN基LED外延结构,其中所述衬底是含光致发光荧光材料的衬底。通过使用稀土元素掺杂Re3Al5O12衬底,使得LED外延结构的光电效率提高、并且降低了器件的发热量;由于LED外延层结构是以荧光材料为衬底,由该外延结构制备的LED芯片可实现直接的白光发射,从而简化了白光LED光源的制备工序,降低了生产成本;通过先外延、然后图形化衬底、再进行侧向生长GaN基外延结构降低了外延结构的缺陷密度。
公开/授权文献
- CN104332539B GaN基LED外延结构及其制造方法 公开/授权日:2017-10-24
IPC分类: