发明公开
- 专利标题: 在基底上沉积层体系的涂布方法和具有层体系的基底
- 专利标题(英): Coating Method For Depositing Layer System On Substrate And Substrate Having Layer System
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申请号: CN201310313395.6申请日: 2013-04-19
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公开(公告)号: CN104060225A公开(公告)日: 2014-09-24
- 发明人: J·费特尔 , G·埃尔肯斯 , J·米勒
- 申请人: 苏舍梅塔普拉斯有限责任公司
- 申请人地址: 德国贝吉施-格拉德巴赫
- 专利权人: 苏舍梅塔普拉斯有限责任公司
- 当前专利权人: 苏舍梅塔普拉斯有限责任公司
- 当前专利权人地址: 德国贝吉施-格拉德巴赫
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 李连涛; 万雪松
- 优先权: 12164959.4 2012.04.20 EP
- 主分类号: C23C14/22
- IPC分类号: C23C14/22 ; C23C14/06
摘要:
本发明涉及在基底(1)上沉积由硬质材料层形成的层体系(S)的涂布方法,其包括下列方法步骤:提供可抽空的工艺室(2),该工艺室具有含蒸发材料(M1)的阴极真空电弧蒸发源(Q1)和具有含放电材料(M2)的磁控放电源(Q2),其中所述磁控放电源(Q2)可在HIPIMS模式下操作。随后仅利用阴极真空电弧蒸发源(Q1)在阴极真空电弧蒸发工艺中在基底(1)的表面上沉积至少一个包含所述蒸发材料(M1)的接触层(S1)。根据本发明,在沉积该接触层(S1)后,通过阴极真空电弧蒸发源(Q1)和磁控放电源(Q2)的平行操作,以纳米结构混合层形式,特别地以混合相中的纳米层中间层(S2)形式或以纳米复合层形式,沉积至少一个包含所述蒸发材料(MI)和所述放电材料(M2)的中间层(S2)。在此方面,所述磁控放电源(Q2)在HIPIMS模式下操作,和随后,仅利用磁控放电源(Q2)沉积至少一个包含所述材料(M2)的顶层(S3),其中所述磁控放电源(Q2)在HIPIMS模式下操作。此外,本发明涉及具有层体系的基底。
IPC分类: