发明授权
- 专利标题: 用于制作半导体器件的方法
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申请号: CN201410060022.7申请日: 2014-02-21
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公开(公告)号: CN104008980B公开(公告)日: 2018-05-22
- 发明人: G·贝尔 , T·基尔格 , D·迈尔 , U·瓦赫特
- 申请人: 英飞凌科技股份有限公司
- 申请人地址: 德国诺伊比贝尔格
- 专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 德国诺伊比贝尔格
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华; 张宁
- 优先权: 13/774,541 2013.02.22 US
- 主分类号: H01L21/56
- IPC分类号: H01L21/56 ; H01L23/31
摘要:
本公开的实施例涉及多个半导体芯片,每个半导体芯片包括第一主面和与第一主面相对的第二主面。第一包封层被施加在半导体芯片的第二主面之上。电布线层施加在第一半导体芯片的第一主面之上。第二包封层施加在电布线层之上。减小第一包封层的厚度和第一半导体芯片的厚度。可以对结构进行单片化以获得多个半导体器件。
公开/授权文献
- CN104008980A 半导体器件 公开/授权日:2014-08-27
IPC分类: