Invention Grant
- Patent Title: 半导体器件结构及其制作方法
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Application No.: CN201210333470.0Application Date: 2012-09-10
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Publication No.: CN103681461BPublication Date: 2016-06-01
- Inventor: 钟汇才 , 梁擎擎 , 罗军 , 朱慧珑
- Applicant: 中国科学院微电子研究所
- Applicant Address: 北京市朝阳区北土城西路3号
- Assignee: 中国科学院微电子研究所
- Current Assignee: 中国科学院微电子研究所
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区北土城西路3号
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 倪斌
- Main IPC: H01L21/768
- IPC: H01L21/768 ; H01L21/8234 ; H01L27/088

Abstract:
本申请公开了一种半导体器件结构及其制作方法。根据一示例,该方法包括:在衬底上设置有源区;在衬底上形成至少一条连续的栅极线,所述栅极线经由栅介质层与有源区相交;绕所述栅极线形成电介质侧墙;在所述栅极线的两侧,在有源区中形成源/漏区;形成与源/漏区电接触的接触部;在第一预定区域处,在接触部中形成沟槽,所述沟槽并未切断接触部;以及在第二预定区域处,实现器件间电隔离,被隔离的栅极线部分形成相应单元器件的栅极。
Public/Granted literature
- CN103681461A 半导体器件结构及其制作方法 Public/Granted day:2014-03-26
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IPC分类: