半导体器件结构及其制作方法
Abstract:
本申请公开了一种半导体器件结构及其制作方法。根据一示例,该方法包括:在衬底上设置有源区;在衬底上形成至少一条连续的栅极线,所述栅极线经由栅介质层与有源区相交;绕所述栅极线形成电介质侧墙;在所述栅极线的两侧,在有源区中形成源/漏区;形成与源/漏区电接触的接触部;在第一预定区域处,在接触部中形成沟槽,所述沟槽并未切断接触部;以及在第二预定区域处,实现器件间电隔离,被隔离的栅极线部分形成相应单元器件的栅极。
Public/Granted literature
Patent Agency Ranking
0/0