发明授权
- 专利标题: 层叠方法以及层叠系统
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申请号: CN201310373266.6申请日: 2013-08-23
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公开(公告)号: CN103632997B公开(公告)日: 2016-08-24
- 发明人: 广濑智章 , 冈野敦 , 田岛久良 , 山本隆幸
- 申请人: 株式会社名机制作所
- 申请人地址: 日本爱知县
- 专利权人: 株式会社名机制作所
- 当前专利权人: 株式会社日本制钢所
- 当前专利权人地址: 日本爱知县
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 段承恩; 杨光军
- 优先权: 184884/2012 2012.08.24 JP
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/677
摘要:
本发明提供一种层叠方法以及层叠系统,即使在薄壁化的半导体、由高脆性材料构成的半导体等脆性被层叠体的情况下,也能够不受损伤地进行膜状层叠体良好的层叠。在通过将脆性被层叠体(W)与膜状层叠体(F)重合而加热以及加压来将膜状层叠体(F)向脆性被层叠体(W)层叠的层叠方法中,对于载置于载置部件(36)而运入到层叠装置(12)的脆性被层叠体(W),在层叠装置(12)的真空腔(C)内从上方使弹性膜体(16)鼓出,对脆性被层叠体(W)和膜状层叠体(F)加压而将其层叠。
公开/授权文献
- CN103632997A 层叠方法以及层叠系统 公开/授权日:2014-03-12
IPC分类: