- 专利标题: 多孔金字塔减反射结构制备方法及HIT太阳能电池制备工艺
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申请号: CN201310467811.8申请日: 2013-10-10
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公开(公告)号: CN103474518B公开(公告)日: 2015-09-09
- 发明人: 陆中丹 , 石建华
- 申请人: 常州天合光能有限公司
- 申请人地址: 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号
- 专利权人: 常州天合光能有限公司
- 当前专利权人: 天合光能股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号
- 代理机构: 常州市科谊专利代理事务所
- 代理商 孙彬
- 主分类号: H01L31/20
- IPC分类号: H01L31/20
摘要:
本发明公开了一种多孔金字塔减反射结构制备方法及HIT太阳能电池制备工艺,多孔金字塔减反射结构制备方法的步骤如下:1)对单晶硅衬底进行清洗制绒,使其表面形成金字塔结构的绒面;2)将具有所述金字塔结构的单晶硅衬底浸没在酸性溶液中进行处理;3)采用反应离子刻蚀方法对经过步骤2)处理的单晶硅衬底进行刻蚀,在金字塔结构上制备纳米结构,使经过步骤2)处理的单晶硅衬底表面形成多孔状金字塔结构;4)将经过步骤3)处理后的单晶硅衬底进行碱刻蚀,得到该太阳能电池表面的多孔金字塔减反射结构。本发明能够降低衬底的反射率,从而提高短路电流密度的同时提高了衬底的钝化效果,适当地提高了电池的开路电压,提高了电池的转换效率。
公开/授权文献
- CN103474518A 多孔金字塔减反射结构制备方法及HIT太阳能电池制备工艺 公开/授权日:2013-12-25
IPC分类: