知搜-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明公开
CN103311158A 制程处理部件、基板处理设备以及基板处理方法 有权

  • 专利标题： 制程处理部件、基板处理设备以及基板处理方法
  • 专利标题（英）： Process processing member, substrate processing apparatus and substrate processing method
  • 申请号： CN201310077871.9
    申请日： 2013-03-12
  • 公开(公告)号： CN103311158A
    公开(公告)日： 2013-09-18
  • 发明人: 蔡熙善 , 李晟旭
  • 申请人： PSK有限公司
  • 申请人地址： 韩国京畿道华城市石隅洞2-12
  • 专利权人： PSK有限公司
  • 当前专利权人： PSK有限公司
  • 当前专利权人地址： 韩国京畿道华城市石隅洞2-12
  • 代理机构： 北京中博世达专利商标代理有限公司
  • 代理商 赵丹
  • 优先权： 10-2012-0025148 2012.03.12 KR
  • 主分类号： H01L21/67
  • IPC分类号： H01L21/67
制程处理部件、基板处理设备以及基板处理方法
摘要：
一种基板处理设备，包括：一内部腔室，其中形成有一第一空间；一第一外部腔室，其围绕该内部腔室且形成与该第一空间分离的一第二空间；一基座，其安置于该第一空间中且用来支撑一基板；一第一排气管路，其连接至该内部腔室且将该第一空间中的气体排放至外部；一制程气体供应构件，其用来向该第一空间供应用以处理该基板的制程气体；以及一监测模块，其安置于该第二空间中且用来监测该第一空间的状态。
摘要（英）：

A substrate processing apparatus comprises an inner chamber, where a first space is formed, a first outer chamber enclosing the inner chamber and forming a second space separated from the first space, a pedestal arranged in the first space for supporting a substrate, a first air discharging pipe connecting to the inner chamber and discharging air in the first space to the outside, a process gas supplying member for supplying process gas for processing the substrate to the first space, and a monitoring module arranged in the second space for monitoring the state of the first space.

公开/授权文献
0/0