- 专利标题: 一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统
- 专利标题(英): Double silicon wafer platform exchange system for photoetching machine with immersion-liquid recovery devices
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申请号: CN201210576850.7申请日: 2012-12-26
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公开(公告)号: CN103034074B公开(公告)日: 2015-04-15
- 发明人: 张鸣 , 朱煜 , 成荣 , 徐登峰 , 刘召 , 王婧 , 田丽 , 杨开明 , 胡金春 , 尹文生 , 穆海华 , 刘昊 , 胡楚雄
- 申请人: 清华大学
- 申请人地址: 北京市海淀区北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室
- 专利权人: 清华大学
- 当前专利权人: 清华大学,北京华卓精科科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室
- 代理机构: 北京鸿元知识产权代理有限公司
- 代理商 邸更岩
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
一种带有浸液回收装置的光刻机双台交换系统,该系统含有基台,两个硅片台,光学透镜系统、多轴激光干涉仪和激光干涉仪反射镜。硅片台带有浸液回收装置,硅片台上表面的一侧设有一块浸液回收板,浸液回收板的上表面与硅片台上表面共面,浸液回收板的侧面有一排小孔,小孔与硅片台外部的浸液回收容器相连接,用于浸没液体的回收,硅片台外围四边设置一套防撞气囊装置。当两硅片台完成交换时,硅片台上的浸液回收板设计保证了交换时浸液循环不用中断,提高了生产效率;气囊式防撞结构具有可伸缩性,与机械式防撞相比刚度低,且结构简单紧凑,可应用于光刻机双台交换系统。
公开/授权文献
- CN103034074A 一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统 公开/授权日:2013-04-10
IPC分类: