发明授权
- 专利标题： 光刻用洗涤液以及配线形成方法
- 专利标题（英）： Cleaning liquid for lithography and method for forming wiring
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申请号： CN201110033927.1申请日： 2011-01-31
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公开(公告)号： CN102169296B公开(公告)日： 2014-11-19
- 发明人: 大桥卓矢 , 高滨昌 , 江藤崇弘 , 森大二郎 , 横井滋
- 申请人： 东京应化工业株式会社
- 申请人地址： 日本神奈川县川崎市中原区中丸子150番地
- 专利权人： 东京应化工业株式会社
- 当前专利权人： 东京应化工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本神奈川县川崎市中原区中丸子150番地
- 代理机构： 广州三环专利代理有限公司
- 代理商 郝传鑫; 倪小敏
- 优先权： 2010-025817 2010.02.08 JP
- 主分类号： G03F7/42
- IPC分类号： G03F7/42 ; C11D7/32 ; C11D7/50 ; C11D7/60 ; C11D7/26 ; H01L21/3213
摘要：
本发明提供一种光刻用洗涤液、以及一种使用该光刻用洗涤液的配线形成方法，该光刻用洗涤液对ILD材料的防腐效果优异，并且对光刻胶膜以及下层防反射膜的除去性能优异。本发明的光刻用洗涤液含有季铵氢氧化物、水溶性有机溶剂、水、和无机碱。水溶性有机溶剂含有偶极矩为3.0D以上的高极性溶剂、乙二醇醚类溶剂、和多元醇，相对于总量，上述高极性溶剂和乙二醇醚类溶剂的总含量为30质量％以上。
公开/授权文献
- CN102169296A 光刻用洗涤液以及配线形成方法 公开/授权日：2011-08-31
IPC分类:
