- 专利标题： 投影系统、光刻设备、将辐射束投影到目标上的方法以及器件制造方法
- 专利标题（英）： Projection system, lithographic apparatus, method of projecting a beam of radiation onto a target and device manufacturing method
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申请号： CN200980131874.8申请日： 2009-07-13
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公开(公告)号： CN102124412B公开(公告)日： 2014-01-22
- 发明人: H·巴特勒 , R·德琼 , M·范德威吉斯特 , R·吐圣恩 , M·奥登耐蒙斯 , A·考沃埃特斯 , A·M·雅库明
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 61/089,820 2008.08.18 US
- 国际申请： PCT/EP2009/058923 2009.07.13
- 国际公布： WO2010/020481 EN 2010.02.25
- 进入国家日期： 2011-02-15
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
提供了一种投影系统(PS)，该投影系统包括：传感器系统(20)，所述传感器系统(20)测量至少一个参数，所述参数与在所述投影系统(PS)内支撑光学元件(11)的框架(10)的物理变形相关联；和控制系统(30)，所述控制系统(30)基于来自所述传感器系统(20)的测量来确定由所述投影系统(PS)投影的所述辐射束的位置的预期偏离，所述预期偏离由所述框架(10)的物理变形引起。
公开/授权文献
- CN102124412A 投影系统、光刻设备、将辐射束投影到目标上的方法以及器件制造方法 公开/授权日：2011-07-13
IPC分类:
