发明授权
- 专利标题： 用于热调节光学元件的方法和系统
- 专利标题（英）： Method and system for thermally conditioning optical element
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申请号： CN200980121967.2申请日： 2009-05-20
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公开(公告)号： CN102057332B公开(公告)日： 2014-04-09
- 发明人: R·施密特兹 , T·范埃姆派尔 , M·姆伊特詹斯 , 程伦 , F·詹森 , W·范海尔登 , R·沃思鲁伊斯 , P·斯加里曼 , A·莱克斯蒙德 , E·尼埃乌库普 , B·伯特斯 , M·莱蒙 , R·范德格拉夫 , M·德克鲁恩 , H·维尔苏伊斯
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王波波
- 优先权： 61/129,180 2008.06.10 US
- 国际申请： PCT/EP2009/056131 2009.05.20
- 国际公布： WO2009/150018 EN 2009.12.17
- 进入国家日期： 2010-12-10
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/00
摘要：
提供一种用于热调节光学元件的方法，所述方法包括：用辐射照射光学元件的步骤；不用辐射照射所述光学元件的步骤；在所述光学元件和保持在调节流体储存器内的调节流体之间实现热流动；和提供所述调节流体的流体流动，以提供热调节后的流体至所述储存器。所述流体在所述光学元件的照射期间的流量低于所述光学元件不被照射时所述流体的流量。
公开/授权文献
- CN102057332A 用于热调节光学元件的方法和系统 公开/授权日：2011-05-11
IPC分类:
