Invention Publication
CN101471248A 半导体衬底的制造方法及半导体器件的制造方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 半导体衬底的制造方法及半导体器件的制造方法
- Patent Title (English): Method for manufacturing semiconductor substrate and method for manufacturing semiconductor device
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Application No.: CN200810189725.4Application Date: 2008-12-26
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Publication No.: CN101471248APublication Date: 2009-07-01
- Inventor: 塚本直树 , 下村明久
- Applicant: 株式会社半导体能源研究所
- Applicant Address: 日本神奈川县
- Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee Address: 日本神奈川县
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 李玲
- Priority: 2007-336454 2007.12.27 JP
- Main IPC: H01L21/20
- IPC: H01L21/20 ; H01L21/762 ; H01L21/84 ; H01L21/268

Abstract:
本发明提供了一种制造多个单晶半导体层隔着缓冲层固定于玻璃衬底等低耐热性支承衬底上的半导体衬底。通过将氢离子添加到半导体衬底中,准备形成有包含多量氢的损伤区域及缓冲层的多个单晶半导体衬底。将一个或多个该单晶半导体衬底固定于支承衬底上,并且通过照射频率为300MHz以上300GHz以下的电磁波,在损伤区域中分割支承衬底上的单晶半导体衬底。通过反复进行单晶半导体衬底的固定处理及电磁波照射处理,制造在支承衬底上固定需要个数的单晶半导体衬底的半导体衬底。
Public/Granted literature
- CN101471248B 半导体衬底的制造方法及半导体器件的制造方法 Public/Granted day:2012-09-26
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