半导体衬底的制造方法及半导体器件的制造方法
Abstract:
本发明提供了一种制造多个单晶半导体层隔着缓冲层固定于玻璃衬底等低耐热性支承衬底上的半导体衬底。通过将氢离子添加到半导体衬底中,准备形成有包含多量氢的损伤区域及缓冲层的多个单晶半导体衬底。将一个或多个该单晶半导体衬底固定于支承衬底上,并且通过照射频率为300MHz以上300GHz以下的电磁波,在损伤区域中分割支承衬底上的单晶半导体衬底。通过反复进行单晶半导体衬底的固定处理及电磁波照射处理,制造在支承衬底上固定需要个数的单晶半导体衬底的半导体衬底。
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