具有金属元件的集成电路
摘要:
本发明提供一种集成电路工艺、一种集成电路和一种存储器元件。该集成电路包含有:基底、位于该基底上的金属元件,其中该金属元件包含金属材料,以及位于该金属元件上的第一复合材料层,其中该第一复合材料层包含该金属材料与掺杂。
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