半导体集成电路及其制造方法
摘要:
一种半导体集成电路及其制造方法,其可以实现较高的制造成品率,并且补偿CMOS型SRAM的MOS晶体管的阈值电压的标准离差。在SRAM的信息保存工作和写入工作和读出工作的任一有源模式下,对SRAM存储单元的MOS晶体管的衬底(阱)施加衬底偏压(Vbp、Vbn)。首先,测定SRAM的PMOS和NMOS的晶体管的阈值电压。根据测定结果,编程控制存储器(Cnt_MM1、2)的控制信息(Cnt_Sg1、2)。利用程序调整衬底偏压(Vbp、Vbn)的电平,CMOS型SRAM的MOS晶体管的阈值电压的标准离差被控制在规定的误差范围内。相对于施加给MOS晶体管的源极的工作电压,对MOS晶体管的衬底施加反偏置、或者极弱正偏置的衬底偏压。
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