Invention Grant
CN100428469C 在镶嵌工艺中的抛光之后检测残余衬里材料的方法和结构
失效 - 权利终止
- Patent Title: 在镶嵌工艺中的抛光之后检测残余衬里材料的方法和结构
- Patent Title (English): Method and structure for detection of residual liner materials after polishing in damascene process
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Application No.: CN200510119297.4Application Date: 2005-11-03
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Publication No.: CN100428469CPublication Date: 2008-10-22
- Inventor: 爱德华·W.·克沃拉 , 罗纳德·菲利比 , 罗伊·C.·伊古尔登 , 王平川 , 斯蒂芬·K.·洛
- Applicant: 国际商业机器公司
- Applicant Address: 美国纽约
- Assignee: 国际商业机器公司
- Current Assignee: 国际商业机器公司
- Current Assignee Address: 美国纽约
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 王永刚
- Priority: 10/904,329 2004.11.04 US
- Main IPC: H01L27/02
- IPC: H01L27/02 ; H01L23/522 ; H01L21/768 ; H01L21/66
Abstract:
一种用于在镶嵌工艺中的抛光之后检测残余衬里材料的方法和结构，包括包含衬底的集成电路；衬底上方的介质层；介质层上方的标记层；标记层和介质层上方的衬里；以及衬里上方的金属层，其中标记层包括紫外线可检测材料，所述材料在由紫外线激励时以信号表明在标记层上方不存在金属层和衬里。而且，标记层包括与介质层分开的独立的层。此外，紫外线可检测材料包括荧光材料或磷光性材料。
Public/Granted literature
- CN1808715A 在镶嵌工艺中的抛光之后检测残余衬里材料的方法和结构 Public/Granted day:2006-07-26
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IPC分类:
