公开(公告)号：US08389460B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US11994360

申请日：2006-07-03

申请人： Kazuyoshi Arai ,  Tomoki Seo ,  Ryousuke Kurokawa

发明人： Kazuyoshi Arai ,  Tomoki Seo ,  Ryousuke Kurokawa

IPC分类号： C11D7/00 ,  C11D7/12 ,  C11D7/14

CPC分类号： C11D3/0036 ,  C11D3/225 ,  C11D3/3753 ,  C11D7/02 ,  C11D7/14 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3245 ,  C11D11/0017

摘要： The present invention washes clothes using a phosphorous-free detergent composition for clothes, which contains an organic alkaline chelating agent as an essential ingredient, and an anti-soil redeposition agent, but no surfactant.

摘要翻译： 本发明使用含有有机碱性螯合剂作为必需成分的无磷洗涤剂组合物和抗污垢再沉积剂，但不含表面活性剂洗涤衣物。

公开(公告)号：US20090077931A1

公开(公告)日：2009-03-26

申请号：US12211140

申请日：2008-09-16

申请人： Jacqueline Westfield ,  Jeremy Michael Carter

发明人： Jacqueline Westfield ,  Jeremy Michael Carter

IPC分类号： B65B1/04 ,  C11D7/00

CPC分类号： C11D3/0094 ,  C11D3/0089 ,  C11D3/40

摘要： A method of indicating divergent product benefits by formulating a hand dishwashing liquid having a cleaning agent and a hand care agent; choosing a sensory element profile comprising one or more soft colors and a pearlescent appearance; and incorporating the sensory element profile into the hand dishwashing liquid, such that the sensory element profile indicates the efficacy of the cleaning agent and the efficacy of the hand care agent.

摘要翻译： 通过配制具有清洁剂和手部护理剂的手洗碗碟液来指示不同的产品益处的方法; 选择包含一种或多种柔和颜色和珠光外观的感官元件轮廓; 并将感官元件轮廓结合到手洗碗碟洗液中，使得感官元件轮廓指示清洁剂的功效和手部护理剂的功效。

公开(公告)号：US20080253981A1

公开(公告)日：2008-10-16

申请号：US12214501

申请日：2008-06-19

申请人： Joseph A. Lupia ,  Joseph Suhadolnik ,  Mervin G. Wood ,  Wanda H. Martin

发明人： Joseph A. Lupia ,  Joseph Suhadolnik ,  Mervin G. Wood ,  Wanda H. Martin

IPC分类号： A61K8/49 ,  D06M13/355 ,  A61Q1/10 ,  A61Q15/00 ,  A61Q5/12 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/08 ,  A61Q1/06 ,  A61Q3/02 ,  A61Q9/02 ,  C11D7/00

CPC分类号： A61K8/4946 ,  A61K8/49 ,  A61K8/4926 ,  A61K8/494 ,  A61K2800/52 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/06 ,  A61Q11/00 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  C11D3/0084 ,  C11D3/28 ,  C11D7/3281 ,  Y10T442/2393 ,  Y10T442/273 ,  Y10T442/2762

摘要： Disclosed are stabilized body care products, household products, textiles and fabrics which comprise certain sterically hindered amine salt compounds. Dyed products and articles are effectively stabilized against color degradation. The products are for example skin-care products, hair-care products, dentifrices, cosmetics, laundry detergents and fabric softeners, non-detergent based fabric care products, household cleaners and textile-care products.

公开(公告)号：US20080152812A1

公开(公告)日：2008-06-26

申请号：US11644432

申请日：2006-12-22

申请人： Ming Fang ,  Steve Keating ,  Vani Thirumala ,  Lin Sha ,  Bruce Beattie

发明人： Ming Fang ,  Steve Keating ,  Vani Thirumala ,  Lin Sha ,  Bruce Beattie

IPC分类号： B05D3/00 ,  B08B7/00 ,  C11D7/00

CPC分类号： C11D3/0073 ,  C11D3/3427 ,  C11D3/43 ,  C11D11/0029

摘要： Methods and associated structures of forming a microelectronic device are described. Those methods may comprise forming a thin metal-organic layer on a copper structure, wherein the thin metal-organic layer substantially prevents corrosion of the copper structure, and wherein the thin metal-organic layer comprises an organo-copper compound comprising an alkyl group and a thiol group. In addition, methods of applying a high pH cleaning process using a surfactant to improve surface wetting in a low foaming solution is described.

摘要翻译： 描述形成微电子器件的方法和相关结构。 这些方法可以包括在铜结构上形成薄的金属 - 有机层，其中薄金属 - 有机层基本上防止了铜结构的腐蚀，并且其中薄金属 - 有机层包括含有烷基的有机铜化合物和 硫醇基。 此外，描述了使用表面活性剂施加高pH清洁方法以改善低发泡溶液中的表面润湿性的方法。

公开(公告)号：US20050139230A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：US11017699

申请日：2004-12-22

申请人： Tsuyoshi Miyata ,  Yuichi Miyoshi ,  Yoshiaki Namioka

发明人： Tsuyoshi Miyata ,  Yuichi Miyoshi ,  Yoshiaki Namioka

IPC分类号： H01L21/304 ,  B08B3/00 ,  B08B3/08 ,  C11D7/00 ,  C11D7/02 ,  C11D7/08 ,  C11D11/00 ,  H01L21/302 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/02052 ,  B08B3/08 ,  C11D7/02 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047

摘要： A method for cleaning a semiconductor wafer according to the present invention includes the steps of: removing particles on a semiconductor wafer with an alkaline chemical solution to clean the wafer; neutralizing a surface charge of the semiconductor wafer with a weak acid cleaning solution; and removing residual metal impurities on the semiconductor wafer with an acid chemical solution to clean the wafer. The surface of the semiconductor wafer is neutralized and the HPM treatment is then performed with the semiconductor wafer having no charge. As a result, the surface of the semiconductor wafer can be made extremely clean without attaching metal impurities thereto.

摘要翻译： 根据本发明的用于清洁半导体晶片的方法包括以下步骤：用碱性化学溶液去除半导体晶片上的颗粒以清洁晶片; 用弱酸清洗溶液中和半导体晶片的表面电荷; 并用酸化学溶液去除半导体晶片上的残余金属杂质以清洁晶片。 半导体晶片的表面被中和，然后用无电荷的半导体晶片进行HPM处理。 结果，半导体晶片的表面可以非常清洁，而不会附着金属杂质。

公开(公告)号：US5985811A

公开(公告)日：1999-11-16

申请号：US780502

申请日：1997-01-08

申请人： Toda Masayuki ,  Tadahiro Ohmi ,  Yasuyuki Harada

发明人： Toda Masayuki ,  Tadahiro Ohmi ,  Yasuyuki Harada

IPC分类号： B08B3/10 ,  A61B19/00 ,  B08B3/12 ,  C11D3/39 ,  C11D7/00 ,  C11D11/00 ,  H01L21/304 ,  B08B3/04

CPC分类号： C11D3/3947 ,  B08B3/12 ,  C11D11/0047 ,  C11D11/007 ,  A61B90/70

摘要： A cleaning solution and cleaning method are provided which: (1) make treatment at room temperature possible, and do not require heating, (2) use little chemicals and water, (3) do not require specialized apparatuses, and moreover, (4) do not require the use of specialized chemicals. The cleaning solution of the present invention comprises pure water containing 20 ppb-100 ppb of oxygen and 2 ppb or more of nitrogen. Furthermore, the cleaning solution may comprise electrolytically ionized water containing OH.sup.- and containing 20 ppb-100 ppb of oxygen. In the cleaning method of the present invention, the cleaning of a material to be cleaned is conducted in a cleaning solution comprising pure water containing 20 ppb-100 ppb of oxygen and 2 ppb-15 ppm of nitrogen, while applying ultrasound having a frequency of 30 kHz or more. Furthermore, in the cleaning method of the present invention, the cleaning of a material to be cleaned may be conducted in a cleaning solution comprising electrolytically ionized water containing OH.sup.- and containing 20 ppb-100 ppb of oxygen, while applying ultrasound having a frequency of 30 kHz or more.

摘要翻译： 提供清洗方法和清洗方法：（1）在室温下进行处理，不需要加热，（2）少量使用化学品和水，（3）不需要专门的设备，而且（4） 不需要使用专门的化学品。 本发明的清洗液含有20ppb-100ppb的氧和2ppb以上的氮的纯水。 此外，清洁溶液可以包含含有OH-并且含有20ppb-100ppb氧的电解电离水。 在本发明的清洗方法中，要清洗的材料在包含20ppb-100ppb氧气和2ppb-15ppm氮气的纯水的清洁溶液中进行，同时施加频率为 30 kHz以上。 此外，在本发明的清洗方法中，清洗材料可以在含有OH-并含有20ppb-100ppb的氧的电解离子水的清洗溶液中进行，同时施加频率为 30 kHz以上。

公开(公告)号：US5814157A

公开(公告)日：1998-09-29

申请号：US645812

申请日：1996-05-14

申请人： Tetsuo Mizuniwa ,  Yoshimi Shiramizu

发明人： Tetsuo Mizuniwa ,  Yoshimi Shiramizu

IPC分类号： C11D7/10 ,  B08B3/08 ,  C11D7/00 ,  C11D11/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/308 ,  C23G1/02

CPC分类号： H01L21/02052 ,  B08B3/08 ,  C11D11/0047 ,  C11D3/3953 ,  H01L21/67057

摘要： A method for removing metallic and organic contaminations from a surface of a semiconductor wafer comprises cleaning the semiconductor wafer with a cleaning solution which contains a chlorine compound acting as an oxidant and which has a pH value in the range of 1 to 3. The cleaning solution has an oxidation-reduction potential in the range of 800 mV to 1200 mV when measured on the basis of a saturated calomel electrode at a temperature 25.degree. C.

摘要翻译： 从半导体晶片的表面去除金属和有机污染的方法包括用含有氯化合物作为氧化剂并且pH值在1至3范围内的清洗溶液清洗半导体晶片。清洗液 在饱和甘汞电极的温度25℃下测定时，氧化还原电位为800mV〜1200mV。

公开(公告)号：US5280042A

公开(公告)日：1994-01-18

申请号：US888878

申请日：1992-05-26

申请人： John A. Lopes

发明人： John A. Lopes

IPC分类号： A01N33/12 ,  A01N37/00 ,  A01N37/36 ,  A01N41/02 ,  A01N41/04 ,  A01N41/10 ,  A23L3/3535 ,  A61K8/00 ,  A61K8/23 ,  A61K8/24 ,  A61K8/30 ,  A61K8/33 ,  A61K8/36 ,  A61K8/362 ,  A61K8/365 ,  A61K8/37 ,  A61K8/46 ,  A61K8/49 ,  A61K8/67 ,  A61K8/73 ,  A61Q5/00 ,  A61Q11/00 ,  A61Q17/00 ,  C11D3/48 ,  C11D7/00

CPC分类号： A61Q11/00 ,  A01N37/36 ,  A01N41/02 ,  A23L3/3535 ,  A61K8/24 ,  A61K8/36 ,  A61K8/365 ,  A61K8/37 ,  A61K8/463 ,  A61K8/466 ,  A61K8/4973 ,  A61K8/676 ,  A61Q17/005 ,  A61K2800/31

摘要： This invention relates to sanitizing and disinfecting compositions. More particularly, the present invention concerns anhydrous sanitizing and disinfecting concentrate composition suitable for dilution in water to produce aqueous antimicrobial solutions, particularly suited for use as mouthwashes, in human and animal hygiene, and as fresh fruit and vegetable sanitizers, and sanitizers for food processing and other equipment.

摘要翻译： 本发明涉及消毒和消毒组合物。 更具体地说，本发明涉及适用于在水中稀释的无水消毒和消毒浓缩物组合物，以生产特别适用于人和动物卫生的含水抗微生物溶液，以及新鲜水果和蔬菜消毒剂以及用于食品加工的消毒剂 和其他设备。

公开(公告)号：US4485027A

公开(公告)日：1984-11-27

申请号：US537591

申请日：1983-09-30

申请人： Christian Rossmann ,  Helga Burger

发明人： Christian Rossmann ,  Helga Burger

IPC分类号： C23G1/20 ,  C11D7/00 ,  C11D7/06 ,  C11D7/10 ,  C11D7/16 ,  C23G1/14 ,  C11D7/08 ,  C11D11/04 ,  C11D17/00

CPC分类号： C23G1/14 ,  C11D7/06 ,  C11D7/10 ,  C11D7/16

摘要： This invention is directed to a process for cleaning solid surfaces with aqueous alkaline cleaning compositions comprising (a) strongly alkaline active-substance concentrates and (b) acidic active-substance concentrates comprising dispersions of boric acid or alkali metal borates in orthophosphoric acid. Component (a) is present in an excess over component (b) sufficient to cause an alkaline medium.

摘要翻译： 本发明涉及一种用含碱性清洁组合物清洗固体表面的方法，该组合物包含（a）强碱性活性物质浓缩物和（b）包含硼酸或碱金属硼酸盐在正磷酸中的分散体的酸性活性物质浓缩物。 组分（a）存在于足以引起碱性介质的过量组分（b）上。

公开(公告)号：US4379069A

公开(公告)日：1983-04-05

申请号：US270319

申请日：1981-06-04

申请人： Anthony A. Rapisarda ,  Joseph Romeo ,  Jose A. Lopez

发明人： Anthony A. Rapisarda ,  Joseph Romeo ,  Jose A. Lopez

IPC分类号： C11D11/00 ,  C11D3/08 ,  C11D3/39 ,  C11D3/395 ,  C11D17/06 ,  C11D7/00

CPC分类号： C11D3/3942 ,  C11D3/08 ,  C11D3/395

摘要： The present invention relates to a powder detergent composition of improved solubility and methods of making them. The composition comprises a silicate free alkaline blend consisting essentially of about 10-60% builder, about 0.6-6% surfactant. about 20-50% alkaline agent and 0-70% filler; and an admixture of said blend with about 10-30% of solid alkali metal silicate and a chlorine donor providing about 0.4-1.5% available chlorine, the pH of the resulting finished product being about 10.4 or greater at about a 0.25% product use concentration.

摘要翻译： 本发明涉及一种改善溶解度的粉末洗涤剂组合物及其制备方法。 该组合物包含基本上由约10-60％助洗剂，约0.6-6％表面活性剂组成的无硅酸盐混合物。 约20-50％碱性剂和0-70％填料; 和所述共混物与约10-30％的固体碱金属硅酸盐和氯供体的混合物，提供约0.4-1.5％的可用氯，所得最终产物的pH在约0.25％产物使用浓度下为约10.4或更大 。