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    OPTICAL ALIGNMENT OF MULTI-STATION FLEXOGRAPHIC PRINTING SYSTEM USING MOIRE INTERFERENCE
    1.
    发明申请
    OPTICAL ALIGNMENT OF MULTI-STATION FLEXOGRAPHIC PRINTING SYSTEM USING MOIRE INTERFERENCE 审中-公开
    使用光纤干涉的多站点智能打印系统的光学对位

    公开(公告)号：US20150033968A1

    公开(公告)日：2015-02-05

    申请号：US14518923

    申请日：2014-10-20

    申请人： Uni-Pixel Displays, Inc.

    发明人： Kevin J. Derichs ,  Evan M. Goldberg ,  Christopher Derichs

    IPC分类号： B41F27/00 ,  B41F5/24

    CPC分类号： B41F5/24 ,  B41F33/0081 ,  B41M1/04 ,  B41P2233/52

    摘要： A method of aligning a multi-station flexographic printing system using Moiré interference includes printing, using a first flexographic printing station, at least one Moiré interference pattern in a unique location on a first side of a substrate for each of at least one subsequent flexographic printing stations of the system. For each of the at least one subsequent flexographic printing stations, at least one inverted Moiré interference pattern is printed on either side of the substrate in a location corresponding to that station's unique location on the substrate. An alignment of at least one of the at least one subsequent flexographic printing stations is adjusted when at least one Moiré interference pattern interferes with a corresponding at least one inverted Moiré interference pattern.

    摘要翻译： 使用莫尔干扰对准多工位柔版印刷系统的方法包括使用第一柔性版印刷工位在至少一个随后的柔性版印刷中的至少一个基片的第一侧上的唯一位置中印刷至少一个莫尔干涉图案 系统站。 对于至少一个随后的柔性版印刷站中的每一个，至少一个倒置的莫尔干涉图案被印刷在基板的任一侧上，该位置对应于该基板上该基站的唯一位置。 当至少一个莫尔干涉图案干扰对应的至少一个反向莫尔干涉图案时，调整至少一个随后的柔性印刷站中的至少一个的对准。

    METHOD OF ALIGNING TRANSPARENT SUBSTRATES USING MOIRÉ INTERFERENCE
    2.
    发明申请
    METHOD OF ALIGNING TRANSPARENT SUBSTRATES USING MOIRÉ INTERFERENCE 审中-公开
    使用MOIRE干涉校正透明衬底的方法

    公开(公告)号：US20150226547A1

    公开(公告)日：2015-08-13

    申请号：US14177091

    申请日：2014-02-10

    申请人： Uni-Pixel Displays, Inc.

    发明人： Kevin J. Derichs

    IPC分类号： G01B11/27 ,  B32B38/18 ,  B32B37/12 ,  B32B37/18

    CPC分类号： B32B38/1841 ,  B32B37/12 ,  B32B37/18 ,  B32B2307/412 ,  B32B2309/06 ,  B32B2457/208 ,  B32B2551/00 ,  Y10T156/10

    摘要： A method of aligning transparent substrates includes disposing one or more Moiré interference patterns on a side of a first transparent substrate, disposing one or more inverted Moiré interference patterns on a side of a second transparent substrate, and aligning the first transparent substrate to the second transparent substrate using Moiré interference. Each Moiré interference pattern is center-aligned to a corresponding inverted Moiré interference pattern.

    摘要翻译： 对准透明基板的方法包括在第一透明基板的一侧布置一个或多个莫尔干涉图案，在第二透明基板的一侧上布置一个或多个反向莫尔干涉图案，并将第一透明基板对准第二透明基板 基底采用莫尔干涉。 每个莫尔干涉图案中心对准到相应的反向莫尔干涉图案。