公开(公告)号：US09454074B2

公开(公告)日：2016-09-27

申请号：US14307564

申请日：2014-06-18

申请人： Samsung Electronics Co., Ltd.

发明人： Hwan-seok Seo ,  Su-young Lee

IPC分类号： G03F1/24 ,  G03F1/50 ,  G03F1/48

CPC分类号： G03F1/48 ,  G03F1/24 ,  G03F1/38

摘要： Reflective photomask blanks are provided. The reflective photomask blank includes a multi-layered reflection layer on a photomask substrate, a capping layer directly disposed on a top surface of the multi-layered reflection layer to include transition metal and silicon, a passivation layer disposed on a surface of the capping layer opposite to the multi-layered reflection layer, and a light absorption layer on the passivation layer.

摘要翻译： 提供反射式光掩模坯料。 反射式光掩模坯料包括光掩模基板上的多层反射层，直接设置在多层反射层的顶表面上以包括过渡金属和硅的封盖层，设置在封盖层的表面上的钝化层 与多层反射层相对，以及钝化层上的光吸收层。

公开(公告)号：US20150010854A1

公开(公告)日：2015-01-08

申请号：US14307564

申请日：2014-06-18

申请人： Samsung Electronics Co., Ltd.

发明人： Hwan-seok SEO ,  Su-young Lee

IPC分类号： G03F1/52 ,  G03F1/50

CPC分类号： G03F1/48 ,  G03F1/24 ,  G03F1/38

摘要： Reflective photomask blanks are provided. The reflective photomask blank includes a multi-layered reflection layer on a photomask substrate, a capping layer directly disposed on a top surface of the multi-layered reflection layer to include transition metal and silicon, a passivation layer disposed on a surface of the capping layer opposite to the multi-layered reflection layer, and a light absorption layer on the passivation layer.

摘要翻译： 提供反射式光掩模坯料。 反射式光掩模坯料包括光掩模基板上的多层反射层，直接设置在多层反射层的顶表面上以包括过渡金属和硅的封盖层，设置在封盖层的表面上的钝化层 与多层反射层相对，以及钝化层上的光吸收层。