公开(公告)号：US20180259847A1

公开(公告)日：2018-09-13

申请号：US15977283

申请日：2018-05-11

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Inventor： Mun Ja KIM ,  Ji-beom YOO ,  Seul-gi KIM ,  Sang-jin CHO ,  Myung-shik CHANG ,  Jang-dong YOU

IPC: G03F1/64 ,  G03F1/62 ,  G03F1/22

CPC classification number: G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/62

Abstract: A pellicle film for extreme ultraviolet (EUV) lithography includes a graphite-containing thin film.

公开(公告)号：US20160282712A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：US15034014

申请日：2014-06-03

Applicant: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. ,  RESEARCH & BUSINESS FOUNDATION SUNGKYUNKWAN UNIVERSITY ,  FINE SEMITECH CORP.

Inventor： Mun Ja KIM ,  Ji-beom YOO ,  Seul-gi KIM ,  Sang-jin CHO ,  Myung-shik CHANG ,  Jang-dong YOU

IPC: G03F1/64 ,  G03F1/62

CPC classification number: G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/62

Abstract: A pellicle film for extreme ultraviolet (EUV) lithography includes graphite-containing thin film.

Abstract translation: 用于极紫外（EUV）光刻的防护薄膜包括含石墨的薄膜。