公开(公告)号：US20150053135A1

公开(公告)日：2015-02-26

申请号：US14187471

申请日：2014-02-24

Applicant: Samsung Display Co., Ltd.

Inventor： Yung-Bin CHUNG ,  Jun-Hyuck JEON ,  Yeon-Taek JUNG ,  Seok-Bae KO ,  Myoung-Jae KIM ,  Jin-Hyuck SONG ,  Eun-A YU ,  Seung-Kyeng CHO ,  Ji-Hyun HAM

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/509

CPC classification number: H01J37/32577 ,  H01J37/32091 ,  Y10T428/24628

Abstract: A strap for a plasma processing apparatus includes a main body, and a protrusion pattern defined in the main body. The main body may include a binding part defined at opposing ends thereof. The protrusion pattern may include a protrusion.

Abstract translation: 用于等离子体处理装置的带包括主体和限定在主体中的突起图案。 主体可以包括限定在其相对端的绑定部。 突起图案可以包括突起。