公开(公告)号：US20160032052A1

公开(公告)日：2016-02-04

申请号：US14814631

申请日：2015-07-31

申请人： SUMITOMO BAKELITE COMPANY LIMITED

发明人： Toshihiko KATAYAMA ,  Jun OKADA ,  Ritsuya KAWASAKI ,  Hideo UMEDA

IPC分类号： C08G69/32

CPC分类号： C08G69/32 ,  C08G69/26 ,  C08G69/28 ,  C09D177/06 ,  C09D177/10

摘要： In one or a plurality of embodiments, a process for manufacturing polyamide, with a reduced use of an amide-based solvent in synthesis, is provided. In one or a plurality of embodiments, provided is a process for manufacturing polyamide, including steps (a) to (c): (a) dissolving diacid dichloride in a non-amide-based organic solvent; (b) adding diamine to a solution obtained in the step (a) and reacting the diacid dichloride with the diamine so as to generate polyamide; and (c) adding a trapping reagent capable of trapping hydrochloric acid, at any time at least before the step (b), at the same time of starting the step (b), or during the step (b).

摘要翻译： 在一个或多个实施方案中，提供了一种在合成中减少使用酰胺类溶剂来制造聚酰胺的方法。 在一个或多个实施方案中，提供了制备聚酰胺的方法，包括步骤（a）至（c）：（a）将二酰氯溶解在非酰胺类有机溶剂中; （b）将二胺加入到步骤（a）中得到的溶液中，并使二酰氯与二胺反应，生成聚酰胺; （c）在起步步骤（b）的同时或在步骤（b）的同时，至少在步骤（b）之前的任何时间加入能够捕获盐酸的捕集试剂。

公开(公告)号：US20160039974A1

公开(公告)日：2016-02-11

申请号：US14818431

申请日：2015-08-05

申请人： SUMITOMO BAKELITE COMPANY LIMITED ,  AKRON POLYMER SYSTEMS, INC.

发明人： Limin SUN ,  Dong ZHANG ,  Frank W. HARRIS ,  Jun OKADA ,  Toshihiko KATAYAMA ,  Hideo UMEDA ,  Ritsuya KAWASAKI

IPC分类号： C08G69/32

CPC分类号： C08G69/32 ,  C08G69/28 ,  C09D177/10

摘要： In one or a plurality of embodiments, a process for manufacturing polyamide, with a reduced use of an amide-based solvent in synthesis, is provided. In one or a plurality of embodiments, provided is a process for manufacturing polyamide, including steps (1) to (3): (1) dissolving diamine in a non-amide-based organic solvent or a non-amide-based organic solvent containing 10 mass% or less of an amide-based organic solvent; (2) adding diacid dichloride to a solution obtained in the step (1) and reacting the diamine with the diacid dichloride so as to generate polyamide; and (3) adding a trapping reagent capable of trapping hydrochloric acid.

摘要翻译： 在一个或多个实施方案中，提供了一种在合成中减少使用酰胺类溶剂来制造聚酰胺的方法。 在一个或多个实施方案中，提供了制备聚酰胺的方法，包括步骤（1）至（3）：（1）将二胺溶解在非酰胺类有机溶剂或非酰胺类有机溶剂中， 10质量％以下的酰胺类有机溶剂; （2）将二酰氯加入到步骤（1）中得到的溶液中，并使二胺与二酰氯反应，生成聚酰胺; 和（3）加入能捕获盐酸的捕集剂。

公开(公告)号：US20150344359A1

公开(公告)日：2015-12-03

申请号：US14724299

申请日：2015-05-28

申请人： SUMITOMO BAKELITE COMPANY LIMITED ,  AKRON POLYMER SYSTEMS, INC.

发明人： Ritsuya KAWASAKI ,  Takehiko MAETANI ,  Toshihiko KATAYAMA ,  Jun OKADA ,  Hideo UMEDA ,  Limin SUN ,  Jiaokai JING ,  Dong ZHANG ,  Frank W. HARRIS

IPC分类号： C03C17/32 ,  G01D5/00

CPC分类号： C03C17/32 ,  C08G69/265 ,  C08G69/32 ,  C09D177/10 ,  G01D5/00

摘要： This disclosure, viewed from one aspect, relates to a method for producing a sensor element, including the following steps (A) and (B): (A) applying a polyamide solution onto a base to form a polyamide film on the base; and (B) forming a sensor element on the surface of the polyamide film, wherein the base or the surface of the base is composed of glass or silicon wafer, wherein a polyamide of the polyamide solution has a constitutional unit represented by the following general formulae (I) and (II):

摘要翻译： 从一方面看，本发明涉及一种用于制造传感器元件的方法，包括以下步骤（A）和（B）：（A）将聚酰胺溶液施加到基底上以在基底上形成聚酰胺膜; 和（B）在所述聚酰胺薄膜的表面上形成传感器元件，其中所述基体或所述基材的表面由玻璃或硅晶片构成，其中所述聚酰胺溶液的聚酰胺具有由以下通式表示的结构单元 （I）和（II）：