公开(公告)号：US09188484B2

公开(公告)日：2015-11-17

申请号：US14225698

申请日：2014-03-26

申请人： KOREA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY

发明人： Young Min Jhon ,  Yong Soo Kim ,  Min Ah Seo ,  Jae Hun Kim ,  Min Chul Park ,  Sun Ho Kim ,  Deok Ha Woo ,  Seok Lee ,  Taik Jin Lee ,  Myung Suk Chun ,  Woon Jo Cho

IPC分类号： G01J3/02

CPC分类号： G01J3/0297 ,  G01J3/28 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70616

摘要： Provided are an apparatus and method for calibrating an extreme ultraviolet (EUV) spectrometer in which a wavelength of a spectrum of EUV light used for EUV lithography and mask inspection technology can be measured accurately.

摘要翻译： 提供了一种用于校准极紫外（EUV）光谱仪的装置和方法，其中可以精确地测量用于EUV光刻和掩模检查技术的EUV光的光谱的波长。