公开(公告)号：US20160258062A1

公开(公告)日：2016-09-08

申请号：US15157692

申请日：2016-05-18

申请人： ASM Genitech Korea Ltd.

发明人： Ki Jong KIM ,  Hyun Kyu CHO ,  Jin Su LEE ,  Se Yong KIM

IPC分类号： C23C16/455 ,  H01J37/32

CPC分类号： C23C16/45542 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32146 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32733 ,  H01J2237/332

摘要： A deposition apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of reaction spaces, a plurality of plasma electrodes respectively disposed in the reaction spaces, a first plasma processor connected to at least two plasma electrodes, and a first plasma power source connected to the first plasma processor. The first plasma processor may include a plasma distributor or a plasma splitter.

摘要翻译： 根据本发明的示例性实施例的沉积设备包括多个反应空间，分别设置在反应空间中的多个等离子体电极，连接到至少两个等离子体电极的第一等离子体处理器和连接到第一等离子体电源的第一等离子体电源 到第一等离子体处理器。 第一等离子体处理器可包括等离子体分配器或等离子体分离器。