公开(公告)号：US20160004259A1

公开(公告)日：2016-01-07

申请号：US14476215

申请日：2014-09-03

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： MARTIN JEFF SALINAS ,  YOUQUN DONG ,  DAVID THOMPSON ,  MEI CHANG

IPC: G05D11/00 ,  F17C6/00

CPC classification number: F17C6/00 ,  C23C16/4481 ,  F24F6/025 ,  G05D9/02 ,  G05D9/12 ,  Y10T137/6416 ,  Y10T137/7306

Abstract: Methods and apparatus for chemical delivery are provided herein. In some embodiments, a first reservoir holds a first volume of fluid, receives a carrier gas, and outputs the carrier gas together with vapor derived from the first volume of fluid. A second reservoir holds a second volume of fluid and is capable of delivering a part of the second volume of fluid to the first reservoir. A self-regulating tube extends from the first reservoir to a region above the second volume of fluid in the second reservoir.

Abstract translation: 本文提供了用于化学物质输送的方法和装置。 在一些实施例中，第一储存器容纳第一体积的流体，接收载气，并将载气与来自第一体积流体的蒸气一起输出。 第二储存器容纳第二体积的流体，并且能够将第二体积的流体的一部分输送到第一储存器。 自调节管从第一储存器延伸到第二储存器中的第二体积流体上方的区域。

公开(公告)号：US20160258061A1

公开(公告)日：2016-09-08

申请号：US14641378

申请日：2015-03-07

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC.

Inventor： CHENG-HSIUNG TSAI ,  YOUQUN DONG ,  MANJUNATHA KOPPA

IPC: C23C16/458

Abstract: Apparatus for improving substrate temperature uniformity in a substrate processing chamber are provided herein. In some embodiments, a cover plate for a substrate processing chamber includes: an outer portion; and a raised inner portion having a thermally emissive layer, wherein a thermal emissivity of the thermally emissive layer varies across the thermally emissive layer.

Abstract translation: 本发明提供用于提高基板处理室中的基板温度均匀性的装置。 在一些实施例中，用于基板处理室的盖板包括：外部部分; 以及具有热发射层的升高的内部部分，其中热发射层的热辐射率在热发射层上变化。