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1.发明授权公开(公告)号：US08518618B2
公开(公告)日：2013-08-27
申请号：US13171794
申请日：2011-06-29
IPC分类号： G03G5/00
CPC分类号： G03G15/751 , G03G5/0539 , G03G5/0542 , G03G5/0546 , G03G5/0589 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/071 , G03G5/14717 , G03G5/14726 , G03G5/14734 , G03G5/14747 , G03G5/14786 , G03G5/14791 , G03G5/14795
摘要： To provide an electrophotographic photoconductor, containing: a conductive support; a photosensitive layer provided above the conductive support; and a hardened protective layer provided above the photosensitive layer, wherein the hardened protective layer contains a hardened product of a radical polymerizable compound containing an adamantane skeleton.
摘要翻译： 提供电子照相感光体，其包含：导电性支持体; 设置在所述导电支撑体上方的感光层; 以及设置在感光层上方的硬化保护层，其中硬化保护层含有含有金刚烷骨架的自由基聚合性化合物的硬化产物。
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2.发明申请公开(公告)号：US20120009513A1
公开(公告)日：2012-01-12
申请号：US13171794
申请日：2011-06-29
CPC分类号： G03G15/751 , G03G5/0539 , G03G5/0542 , G03G5/0546 , G03G5/0589 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/071 , G03G5/14717 , G03G5/14726 , G03G5/14734 , G03G5/14747 , G03G5/14786 , G03G5/14791 , G03G5/14795
摘要： To provide an electrophotographic photoconductor, containing: a conductive support; a photosensitive layer provided above the conductive support; and a hardened protective layer provided above the photosensitive layer, wherein the hardened protective layer contains a hardened product of a radical polymerizable compound containing an adamantane skeleton.
摘要翻译： 提供电子照相感光体，其包含：导电性支持体; 设置在所述导电支撑体上方的感光层; 以及设置在感光层上方的硬化保护层，其中硬化保护层含有含有金刚烷骨架的自由基聚合性化合物的硬化产物。
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3.发明授权Homoadamantane derivatives, process for preparing same, and photoresist compositions 有权高金刚烷衍生物，其制备方法和光致抗蚀剂组合物公开(公告)号：US09513545B2
公开(公告)日：2016-12-06
申请号：US13816071
申请日：2011-07-26
申请人： Shinji Tanaka , Yoshitaka Uenoyama , Hidetoshi Ono , Naoya Kawano , Katsuki Ito
发明人： Shinji Tanaka , Yoshitaka Uenoyama , Hidetoshi Ono , Naoya Kawano , Katsuki Ito
IPC分类号： C08F220/28 , C08F220/30 , C07D313/06 , C07D313/10 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/004 , C07D313/06 , C07D313/10 , C08F220/28 , C08F220/30 , G03F7/0397
摘要： A compound represented by the following formula (I), wherein R1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
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4.发明申请HOMOADAMANTANE DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTORESIST 审中-公开羟基衍生物衍生物，其制备方法和光致抗蚀剂的感光材料公开(公告)号：US20130022914A1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：US13638979
申请日：2011-03-16
申请人： Shinji Tanaka , Yoshitaka Uenoyama , Hidetoshi Ono , Naoya Kawano , Katsuki Ito
发明人： Shinji Tanaka , Yoshitaka Uenoyama , Hidetoshi Ono , Naoya Kawano , Katsuki Ito
IPC分类号： C07D313/06 , G03F7/004 , G03F7/20 , C08F122/20
CPC分类号： G03F7/039 , C07D313/10 , C08F20/26 , C08F222/10 , C08F224/00 , G03F7/0397 , G03F7/165 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/322
摘要： A homoadamantane derivative represented by the following formula (I): wherein R1 and R2 are independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, x is a hydroxyl group or a halogen atom, and n and m are independently an integer of 0 to 3, provided that n and m are not simultaneously 0.
摘要翻译： 由下式（I）表示的高金刚烷衍生物：其中R1和R2独立地为氢原子或具有1至6个碳原子的直链，支链或环状烃基，x为羟基或卤素原子，n和 m独立地为0〜3的整数，条件是n和m不同时为0。
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5.发明申请HOMOADAMANTANE DERIVATIVES, PROCESS FOR PREPARING SAME, AND PHOTORESIST COMPOSITIONS 有权同型异构体衍生物，其制备方法和光电组合物公开(公告)号：US20130143157A1
公开(公告)日：2013-06-06
申请号：US13816071
申请日：2011-07-26
申请人： Shinji Tanaka , Yoshitaka Uenoyama , Hidetoshi Ono , Naoya Kawano , Katsuki Ito
发明人： Shinji Tanaka , Yoshitaka Uenoyama , Hidetoshi Ono , Naoya Kawano , Katsuki Ito
IPC分类号： G03F7/004 , C07D313/06
CPC分类号： G03F7/004 , C07D313/06 , C07D313/10 , C08F220/28 , C08F220/30 , G03F7/0397
摘要： A compound represented by the following formula (I), wherein R1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
摘要翻译： 由下式（I）表示的化合物，其中R 1是氢原子，卤素原子，甲基或三氟甲基。
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6.发明申请HOMOADAMANTANE DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTORESIST 审中-公开羟基衍生物衍生物，其制备方法和光致抗蚀剂的感光材料公开(公告)号：US20150316847A1
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：US14798990
申请日：2015-07-14
申请人： Shinji TANAKA , Yoshitaka Uenoyama , Hidetoshi Ono , Naoya Kawano , Katsuki Ito
发明人： Shinji TANAKA , Yoshitaka Uenoyama , Hidetoshi Ono , Naoya Kawano , Katsuki Ito
IPC分类号： G03F7/039 , C08F222/10 , G03F7/30 , G03F7/16 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/039 , C07D313/10 , C08F20/26 , C08F222/10 , C08F224/00 , G03F7/0397 , G03F7/165 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/322
摘要： A (meth)acrylic polymer obtained by polymerizing a (meth)acrylic ester of formula wherein R1 and R2 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; R3 is a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group; and n and m are each independently an integer of 0 to 3, provided that n and m are not simultaneously 0. Also, a positive photoresist composition including the (meth)acrylic polymer and a method of forming a photoresist pattern with the positive photoresist composition.
摘要翻译： 通过使下式的（甲基）丙烯酸酯聚合而得到的（甲基）丙烯酸系聚合物，其中R 1和R 2各自独立地为氢原子或具有1〜6个碳原子的直链，支链或环状烃基; R3是氢原子，甲基或三氟甲基; n和m各自独立地为0〜3的整数，条件是n和m不同时为O.此外，包含（甲基）丙烯酸类聚合物的正性光致抗蚀剂组合物和形成具有正性光致抗蚀剂组合物的光刻胶图案的方法 。
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