公开(公告)号：US20050083496A1

公开(公告)日：2005-04-21

申请号：US10925148

申请日：2004-08-25

申请人： Michel Dansberg ,  Sebastiaan Cornelissen ,  Henrikus Cox ,  Robert Van Diesen ,  Nicolaas Kemper ,  Robert-Han Munnig-Schmidt ,  Harmen Van Der Schoot ,  Rob Jansen

发明人： Michel Dansberg ,  Sebastiaan Cornelissen ,  Henrikus Cox ,  Robert Van Diesen ,  Nicolaas Kemper ,  Robert-Han Munnig-Schmidt ,  Harmen Van Der Schoot ,  Rob Jansen

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7095

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a radiation system for providing a beam of radiation, a first support structure for supporting a patterning device, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system. At least one of the first and second support structures includes a planar base, a movable stage that can be moved over the planar base, and an actuator for moving the stage. The apparatus also includes a contactless position measuring device for measuring a position of the stage, and a first pump for generating a conditioned gas flow in a volume between the measuring device and the stage. The base includes a plurality of gas channels that provide a path for the conditioned gas to flow through the base.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括用于提供辐射束的辐射系统，用于支撑图案形成装置的第一支撑结构，用于支撑衬底的第二支撑结构和投影系统。 第一和第二支撑结构中的至少一个包括平面基座，可在平面基座上移动的可移动平台以及用于移动平台的致动器。 该装置还包括用于测量载物台的位置的非接触位置测量装置和用于在测量装置和载物台之间产生体积的调节气流的第一泵。 底座包括多个气体通道，其提供用于经调节的气体流过基座的路径。