公开(公告)号：US5879519A

公开(公告)日：1999-03-09

申请号：US699612

申请日：1996-08-16

申请人： James W. Seeser ,  Thomas H. Allen ,  Eric R. Dickey ,  Bryant P. Hichwa ,  Rolf F. Illsley ,  Robert F. Klinger ,  Paul M. Lefebvre ,  Michael A. Scobey ,  Richard I. Seddon ,  David L. Soberanis ,  Michael D. Temple ,  Craig C. Van Horn ,  Patrick R. Wentworth

发明人： James W. Seeser ,  Thomas H. Allen ,  Eric R. Dickey ,  Bryant P. Hichwa ,  Rolf F. Illsley ,  Robert F. Klinger ,  Paul M. Lefebvre ,  Michael A. Scobey ,  Richard I. Seddon ,  David L. Soberanis ,  Michael D. Temple ,  Craig C. Van Horn ,  Patrick R. Wentworth

IPC分类号： C23C8/02 ,  C23C14/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C14/58

CPC分类号： C23C14/562 ,  C23C14/0047 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/352 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C14/568 ,  C23C14/58 ,  C23C8/02

摘要： A thin film coating system incorporates separate, separately-controlled deposition and reaction zones for depositing materials such as refractory metals and forming oxides and other compounds and alloys of such materials. The associated process involves rotating or translating workpieces past the differentially pumped, atmospherically separated, sequentially or simultaneously operated deposition and reaction zones and is characterized by the ability to form a wide range of materials, by high throughput, and by controlled coating thickness, including both constant and selectively varied thickness profiles.

摘要翻译： 薄膜涂覆系统包含分离的，单独控制的沉积和反应区，用于沉积材料，例如难熔金属和形成氧化物以及其它化合物和这些材料的合金。 相关联的方法涉及通过差异泵浦，大气分离，顺序或同时操作的沉积和反应区域旋转或平移工件，其特征在于能够通过高通量和受控的涂层厚度形成宽范围的材料，包括两者 恒定和选择性变化的厚度剖面。

公开(公告)号：US5618388A

公开(公告)日：1997-04-08

申请号：US317781

申请日：1994-10-04

申请人： James W. Seeser ,  Thomas H. Allen ,  Eric R. Dickey ,  Bryant P. Hichwa ,  Rolf F. Illsley ,  Robert F. Klinger ,  Paul M. LeFebvre ,  Michael A. Scobey ,  Richard I. Seddon ,  David L. Soberanis ,  Michael D. Temple ,  Craig C. Van Horn ,  Patrick R. Wentworth

发明人： James W. Seeser ,  Thomas H. Allen ,  Eric R. Dickey ,  Bryant P. Hichwa ,  Rolf F. Illsley ,  Robert F. Klinger ,  Paul M. LeFebvre ,  Michael A. Scobey ,  Richard I. Seddon ,  David L. Soberanis ,  Michael D. Temple ,  Craig C. Van Horn ,  Patrick R. Wentworth

IPC分类号： C23C8/02 ,  C23C14/00 ,  C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C14/58

CPC分类号： C23C14/562 ,  C23C14/0047 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/352 ,  C23C14/505 ,  C23C14/56 ,  C23C14/568 ,  C23C14/58 ,  C23C8/02

摘要： A thin film coating system incorporates separate, separately-controlled deposition and reaction zones for depositing materials such as refractory metals and forming oxides and other compounds and alloys of such materials. The associated process involves rotating or translating workpieces past the differentially pumped, atmospherically separated, sequentially or simultaneously operated deposition and reaction zones and is characterized by the ability to form a wide range of materials, by high throughput, and by controlled coating thickness, including both constant and selectively varied thickness profiles.

摘要翻译： 薄膜涂覆系统包含分离的，单独控制的沉积和反应区，用于沉积材料，例如难熔金属和形成氧化物以及其它化合物和这些材料的合金。 相关联的方法涉及通过差异泵浦，大气分离，顺序或同时操作的沉积和反应区域旋转或平移工件，其特征在于能够通过高通量和受控的涂层厚度形成宽范围的材料，包括两者 恒定和选择性变化的厚度剖面。