公开(公告)号：US4581401A

公开(公告)日：1986-04-08

申请号：US652449

申请日：1984-09-19

申请人： Frithjof Asmussen ,  Peter Quis ,  Winfried Wunderlich ,  Wolfram Schnabel ,  Hideto Sotobayashi

发明人： Frithjof Asmussen ,  Peter Quis ,  Winfried Wunderlich ,  Wolfram Schnabel ,  Hideto Sotobayashi

IPC分类号： C08F2/00 ,  B29C71/04 ,  C08F2/38 ,  C08F2/46 ,  C08F2/48 ,  C08F2/54 ,  C08F20/00 ,  C08F20/10 ,  C08F20/14 ,  C08F20/40 ,  C08F220/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/36 ,  H01L21/312 ,  C08F8/34

CPC分类号： G03F7/039 ,  B29C71/04 ,  C08F220/14 ,  B29K2033/12

摘要： A radiation sensitive polymeric material comprising a copolymer of methyl methacrylate and allyl methacrylate and at least one organosulfur compound having at least two --SH groups per molecule, said material being useful as a polymer resist sensitive to high energy radiation.

摘要翻译： 一种辐射敏感聚合物材料，其包含甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸烯丙酯的共聚物和每分子具有至少两个-SH基团的至少一种有机硫化合物，所述材料可用作对高能量辐射敏感的聚合物抗蚀剂。

公开(公告)号：US4551414A

公开(公告)日：1985-11-05

申请号：US463437

申请日：1983-02-03

申请人： Frithjof Asmussen ,  Hideto Sotobayashi ,  Jiang-Tsun Chen ,  Wolfram Schnabel

发明人： Frithjof Asmussen ,  Hideto Sotobayashi ,  Jiang-Tsun Chen ,  Wolfram Schnabel

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03C1/495 ,  G03C5/16

CPC分类号： G03F7/039 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/168

摘要： The invention relates to positive resist materials of thermally crosslinkable methacrylic polymers soluble in organic solvents, which are characterized in that the methacrylic polymers are copolymers of 80 to 98 mol-% of fluoroalkylmethacrylate and 20 to 2 mol-% of methacrylic acid chloride or chloroalkylmethacrylate. The resists of the invention are very well suited for the transfer of microstructures, for example in semiconductor technology. They have, in addition to a high sensitivity, a very good mechanical stability and strength of adhesion.

摘要翻译： 本发明涉及可溶于有机溶剂的热交联性甲基丙烯酸聚合物的正性抗蚀剂材料，其特征在于甲基丙烯酸类聚合物是甲基丙烯酸氟代烷基酯80至98摩尔％和甲基丙烯酰氯或甲基丙烯酸氯代烷基酯20至2摩尔％的共聚物。 本发明的抗蚀剂非常适合于微结构的转移，例如在半导体技术中。 除了高灵敏度之外，它们具有非常好的机械稳定性和粘合强度。