公开(公告)号：US07582409B2

公开(公告)日：2009-09-01

申请号：US11916651

申请日：2006-06-16

申请人： Jun Iwashita ,  Ayako Kusaka

发明人： Jun Iwashita ,  Ayako Kusaka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0382 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A negative resist composition that includes an alkali-soluble resin component, an acid generator component that generates acid upon exposure, and a cross-linker component, wherein the alkali-soluble resin component is a copolymer that includes a structural unit containing an aliphatic cyclic group having a fluorinated hydroxyalkyl group, and a structural unit derived from an acrylate ester that contains a hydroxyl group-containing aliphatic cyclic group, and the cross-linker component includes an alkylene urea-based cross-linker.

摘要翻译： 一种负极性抗蚀剂组合物，其包含碱溶性树脂组分，暴露时产生酸的酸产生剂组分和交联剂组分，其中所述碱溶性树脂组分是包含含有脂族环基团的结构单元的共聚物 具有氟化羟烷基，以及衍生自含有羟基的脂肪族环状基团的丙烯酸酯的结构单元，所述交联剂成分包含亚烷基脲系交联剂。

公开(公告)号：US20090162785A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12065990

申请日：2006-08-17

申请人： Jun Iwashita ,  Ayako Kusaka

发明人： Jun Iwashita ,  Ayako Kusaka

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G63/06 ,  G03F7/00

CPC分类号： C08F220/28 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/128 ,  Y10S430/146

摘要： There are provided a polymer compound which can form a resist pattern with excellent resolution, and a negative resist composition containing the polymer compound and a resist pattern-forming method thereof.The present invention is a polymer compound containing a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below. (wherein, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; and R0 represents an alkyl group containing a hydroxyl group.)Also, the present invention is a negative resist composition, including: an alkali soluble resin component (A), an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and a cross-linking agent (C), wherein the alkali soluble resin component (A) contains a polymer compound (A1) having a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown above.

摘要翻译： 提供了可以形成具有优异分辨率的抗蚀剂图案的高分子化合物和含有该高分子化合物的抗蚀剂组合物及其抗蚀剂图案形成方法。 本发明是含有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物。 （其中，R表示氢原子，卤素原子，烷基或卤代烷基，R 0表示含有羟基的烷基）。另外，本发明是负极性抗蚀剂组合物，其包含：碱溶性 树脂组分（A），暴露时产生酸的酸产生剂组分（B）和交联剂（C），其中碱溶性树脂组分（A）含有具有结构单元的高分子化合物（A1） a0），由上述通式（a0-1）表示。

公开(公告)号：US07820360B2

公开(公告)日：2010-10-26

申请号：US12065990

申请日：2006-08-17

申请人： Jun Iwashita ,  Ayako Kusaka

发明人： Jun Iwashita ,  Ayako Kusaka

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  C07C69/52

CPC分类号： C08F220/28 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/128 ,  Y10S430/146

摘要： There are provided a polymer compound which can form a resist pattern with excellent resolution, and a negative resist composition containing the polymer compound and a resist pattern-forming method thereof.The present invention is a polymer compound containing a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below. (wherein, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; and R0 represents an alkyl group containing a hydroxyl group.) Also, the present invention is a negative resist composition, including: an alkali soluble resin component (A), an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, and a cross-linking agent (C), wherein the alkali soluble resin component (A) contains a polymer compound (A1) having a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown above.

摘要翻译： 提供了可以形成具有优异分辨率的抗蚀剂图案的高分子化合物和含有该高分子化合物的抗蚀剂组合物及其抗蚀剂图案形成方法。 本发明是含有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物。 （其中，R表示氢原子，卤素原子，烷基或卤代烷基，R 0表示含有羟基的烷基）。另外，本发明是负极性抗蚀剂组合物，其包含：碱溶性 树脂组分（A），暴露时产生酸的酸产生剂组分（B）和交联剂（C），其中碱溶性树脂组分（A）含有具有结构单元的高分子化合物（A1） a0），由上述通式（a0-1）表示。

公开(公告)号：US20090142698A1

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：US11916651

申请日：2006-06-06

申请人： Jun Iwashita ,  Ayako Kusaka

发明人： Jun Iwashita ,  Ayako Kusaka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0382 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A negative resist composition that includes an alkali-soluble resin component, an acid generator component that generates acid upon exposure, and a cross-linker component, wherein the alkali-soluble resin component is a copolymer that includes a structural unit containing an aliphatic cyclic group having a fluorinated hydroxyalkyl group, and a structural unit derived from an acrylate ester that contains a hydroxyl group-containing aliphatic cyclic group, and the cross-linker component includes an alkylene urea-based cross-linker.

摘要翻译： 一种负极性抗蚀剂组合物，其包含碱溶性树脂组分，暴露时产生酸的酸产生剂组分和交联剂组分，其中所述碱溶性树脂组分是包含含有脂族环基团的结构单元的共聚物 具有氟化羟烷基，以及衍生自含有羟基的脂肪族环状基团的丙烯酸酯的结构单元，所述交联剂成分包含亚烷基脲系交联剂。