公开(公告)号：CN102105310A

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200980129266.3

申请日：2009-08-06

Applicant: 奥普赛科安全集团股份有限公司

Inventor： D·希尔

IPC: B42D15/00 ,  B41D7/00

CPC classification number: G09F21/02 ,  B32B38/0004 ,  B32B38/06 ,  B32B38/145 ,  B32B2519/00 ,  G09F3/02 ,  G09F3/04 ,  G09F3/10 ,  G09F2003/0282 ,  Y10T156/10 ,  Y10T156/1023 ,  Y10T156/1056 ,  Y10T156/1084 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/31551 ,  Y10T428/31993 ,  Y10T442/30

Abstract: 本发明公开了一种复合标志，包括机织织物基体，该机织织物基体有表面、布置在该基体表面上的平滑柔软尿烷涂层、布置在尿烷涂层上的压敏或热敏粘接剂以及布置在粘接剂上的表面原料。

公开(公告)号：CN104249575A

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201410290120.X

申请日：2014-06-25

Applicant: 卡西欧计算机株式会社

Inventor： 汤野裕高 ,  广谷孝幸 ,  村井靖 ,  二渡茂 ,  铃木孝典 ,  横山佳正

IPC: B41K1/50 ,  B41D7/00 ,  B41J3/32

CPC classification number: B23Q3/18 ,  B41D7/00 ,  B41J2/315 ,  B41J2/32 ,  B41K1/02 ,  B41K1/50 ,  B41K3/62

Abstract: 印面版托架(15)使上部厚板纸(22a)和下部厚板纸(22b)粘合而构成，在形成于上部厚板纸(22a)的定位孔(23)中，对由可浸渍墨水的多孔质的乙烯醋酸乙烯共聚物构成的印面原版(17)进行位置固定。下部厚板纸(22b)形成为与上部厚板纸(22a)相同的外形，内部整面形成为平面，与该印面原版(17)的下表面接触，将印面原版(17)可装拆地保持。到高于印面原版(17)表面的熔融温度的温度为止具有耐热性、并且相对于热敏头(18)具有比印面原版(17)的摩擦力低很多的摩擦力的膜(26)覆盖印面版托架(15)的上表面。膜(26)在上部厚板纸(22a)上粘接，在印面原版(17)上没有粘接。

公开(公告)号：CN1319733C

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN200410044423.X

申请日：2004-05-11

Applicant: 孙寿岭

Inventor： 孙寿岭

IPC: B41B5/00 ,  B41D7/00

Abstract: 本发明公开了一种泥活字的制作方法，采用如下步骤，选料和处理：选择纯度达95%的红胶泥(四氧化三铁氧化物)为原料，作成泥团，装入塑料袋中，发酵2天～7天。加工：将泥块做成方块形，然后用刀片切割成泥丁，切好后整形叠放，待稍干后用之。刻字：将加工成型的泥丁放置在模架内夹持，将泥丁整制光滑齐洁，用笔墨反写阳刻，刻出字丁。烧制：采用回转窑，利用煤或油加热加工；将刻制好的字丁送往窑内，在回转窑上部平台位置预热45分钟，预热温度160-250℃；然后字丁在窑内膛逐步加热至700-800℃，烧制2-3小时，待完全陶化后，缓慢降温至180-200℃，取出，收好使用。本发明泥活字所印刷出的字字迹清晰，无流釉现象。

公开(公告)号：CN101124089B

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：CN200580002142.0

申请日：2005-01-12

Applicant: 加利福尼亚大学董事会

Inventor： 陈勇

IPC: B41D7/00 ,  B41C1/06 ,  B41F9/00 ,  B41F33/00 ,  H05C1/04 ,  B05D1/00 ,  B05D3/00 ,  H01T14/00 ,  H05H1/48

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03G13/28 ,  G03G13/283 ,  G03G13/286

Abstract: 一种纳米级光刻方法，其中将具有导电表面和绝缘表面的图案的可再用导电掩模设置在衬底上，该衬底表面包含位于埋入的导电层上的电响应抗蚀剂层。当在导电掩模和埋入的导电层之间施加电场时，在邻近掩模的导电区域的部分中，改变抗蚀剂层。根据从掩模转移的图案，对衬底表面进行选择性处理，改变掩模去除以除去部分抗蚀剂层。衬底可以是目标衬底，或者衬底可以用于另一个衬底的光刻掩模步骤。在本发明的一个方案中，施加电荷的电极可以分为例如多个行和列，其中可以产生任何想得到的图案而不需要制造特定的掩模。

公开(公告)号：CN101323197A

公开(公告)日：2008-12-17

申请号：CN200710028496.3

申请日：2007-06-11

Applicant: 郑汉平

Inventor： 郑汉平

IPC: B41C3/04 ,  B41D7/00 ,  B29C35/02 ,  B29C33/56 ,  B29C43/02 ,  B29C43/34 ,  B29C43/52 ,  B29B7/00

Abstract: 一种硅胶版的制备工艺，首先模具的设计和加工依据三维图雕刻相应的套模，套模包括凹模和上模，上模通过乙烯基三乙氧基硅烷、无水乙醇、去离子水和盐酸的混合液擦拭，凹模表面涂上硅油型脱模剂，加热，待脱模剂完全滋润凹模，将R401/70S或R401/70S与R401/40S的混合物混炼后硫化，合模修边，后二次硫化将成品置于鼓风烘箱烘烤即可。本发明由于通过立体套模以及其处理工艺可用于不同弧度或不规则烫印面，烫印图文丰满、清晰、表面平整度高，效果好的烫金用立体硅胶模制作工艺。

公开(公告)号：CN1772501A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN200510119448.6

申请日：2005-11-10

Applicant: 索尼德国有限责任公司

Inventor： G·克伦 ,  J·维泽尔斯 ,  安田章夫

IPC: B41N1/24 ,  B41N1/08 ,  B41N3/03 ,  B41N3/08 ,  B41C3/00 ,  B41D7/00

CPC classification number: B41K1/50 ,  B41D7/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H05K3/1275 ,  H05K2203/0108

Abstract: 本发明涉及一种用于软性平版印刷的压印模。此外涉及一种制备用于软性平版印刷，特别是用于微接触印刷的压印模的方法，和该压印模的用途。

公开(公告)号：CN1047926A

公开(公告)日：1990-12-19

申请号：CN90101867.8

申请日：1990-03-30

Applicant: 云南省印刷技术研究所

Inventor： 郑春兜 ,  陈永乐

IPC: G03F7/028 ,  B41D7/00

Abstract: PVA感光树脂版的配方及工艺。本发明涉及一种感光树脂印刷版的配方及其制取工艺。本发明感光液配方以聚乙烯醇为主体，N-羟甲基丙烯酰胺、顺丁烯二酸酐类化合物为混合交联剂，光引发剂采用几种安息香类混合物，聚氧乙烯烷基苯酚醚为表面活性剂。在其制备工艺过程中，各种输送操作均用位差输送，涂布方式采用流涎涂布。本发明具有原料来源广、价格低、制备工艺简单、设备投资少、版材感光速度快、着墨性能好、耐印率高的特点。

公开(公告)号：CN100473537C

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200510119448.6

申请日：2005-11-10

Applicant: 索尼德国有限责任公司

Inventor： G·克伦 ,  J·维泽尔斯 ,  安田章夫

IPC: B41N1/24 ,  B41N1/08 ,  B41N3/03 ,  B41N3/08 ,  B41C3/00 ,  B41D7/00

CPC classification number: B41K1/50 ,  B41D7/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  H05K3/1275 ,  H05K2203/0108

Abstract: 本发明涉及一种用于软性平版印刷的压印模。此外涉及一种制备用于软性平版印刷，特别是用于微接触印刷的压印模的方法，和该压印模的用途。

公开(公告)号：CN101124089A

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200580002142.0

申请日：2005-01-12

Applicant: 加利福尼亚大学董事会

Inventor： 陈勇

IPC: B41D7/00 ,  B41C1/06 ,  B41F9/00 ,  B41F33/00 ,  H05C1/04 ,  B05D1/00 ,  B05D3/00 ,  H01T14/00 ,  H05H1/48

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03G13/28 ,  G03G13/283 ,  G03G13/286

Abstract: 一种纳米级光刻方法，其中将具有导电表面和绝缘表面的图案的可再用导电掩模设置在衬底上，该衬底表面包含位于埋入的导电层上的电响应抗蚀剂层。当在导电掩模和埋入的导电层之间施加电场时，在邻近掩模的导电区域的部分中，改变抗蚀剂层。根据从掩模转移的图案，对衬底表面进行选择性处理，改变掩模去除以除去部分抗蚀剂层。衬底可以是目标衬底，或者衬底可以用于另一个衬底的光刻掩模步骤。在本发明的一个方案中，施加电荷的电极可以分为例如多个行和列，其中可以产生任何想得到的图案而不需要制造特定的掩模。

公开(公告)号：CN1267504C

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN03116588.5

申请日：2003-04-24

Applicant: 上海中大科技发展有限公司

Inventor： 潘跃进 ,  张时翔

IPC: C08L101/12 ,  B41D7/00

Abstract: 本发明公开了一种圆网喷稿蜡，其由以下化合物组成：氧化烯烃高聚物10～20重量份，熔点82.5℃高分子烃40～55重量份，熔点59～65℃高分子烃20～30重量份，松香季戍四醇酯粘合剂2～5重量份，黑色颜料3～5重量份。本发明的产品在喷稿过程中不堵塞喷头，最小喷点为30微微升(30×10-12升)，整只圆网喷完后，经感光、水洗显影后，圆网上的网孔清晰、花型逼真，达到了高质量圆网制版要求。