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公开(公告)号：CN108118313A
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201711192506.7
申请日：2017-11-24
Applicant: 乐金显示有限公司
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/0245 , C23C16/46 , H01J37/3277 , H01J2237/2065 , H01J2237/3321 , H01J2237/3328 , H01L27/1262 , H01L27/3262 , H01L31/206 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种辊到辊制造设备和一种处理柔性膜的方法，该辊到辊制造设备包括：真空室，其具有安装室和工艺室；在安装室中的预处理单元，用于处理被传送的膜的表面以增强在随后的CVD工艺中的膜特性；在工艺室中的工艺筒，用于在其上卷绕膜；在工艺室中的工艺处理单元，通过对卷绕在工艺筒上的膜进行CVD工艺来形成层；以及在安装室和工艺室中的多个加热器，用于逐渐增加卷绕在工艺筒上的膜的温度，以防止由于高温工艺筒而对膜施加热冲击。
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公开(公告)号：CN104204270A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380016348.3
申请日：2013-03-08
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C23C14/00
CPC classification number: H01J37/3411 , C23C14/34 , C23C14/562 , C23C14/564 , H01J37/32477 , H01J37/32853 , H01J37/32871 , H01J37/3405 , H01J2237/022 , H01J2237/3328
Abstract: 为了提供一种不论保护对象部件为何部件均能够将附着膜的剥离抑制在极低水平的真空成膜装置用防附着板，而以减小与保护对象部件的接触面积、并且使接触面以外隔热的方式配置防附着板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104498898B
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201410641340.2
申请日：2009-08-04
Applicant: 北美AGC平板玻璃公司 , 旭硝子株式会社 , AGC玻璃欧洲公司
Inventor： P·马诗威茨
IPC: C23C16/44
CPC classification number: H01J37/32596 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C2217/213 , C03C2218/153 , C23C16/402 , C23C16/45517 , C23C16/503 , C23C16/513 , H01J37/32036 , H01J37/32568 , H01J37/3266 , H01J37/32724 , H01J2237/3321 , H01J2237/3328 , H05H1/24 , H05H1/42 , H05H1/46 , H05H2001/466
Abstract: 本发明提供了一种通过等离子体增强的化学气相沉积形成涂层的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和提高所述方法的涂覆效率的方法。
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公开(公告)号：CN106460175A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580010759.0
申请日：2015-02-24
Applicant: 国立大学法人大阪大学 , 日油株式会社
CPC classification number: C23C18/04 , C09D7/63 , C09D11/52 , C09D151/003 , C09D151/08 , C09J5/00 , C09J9/02 , C09J11/06 , C09J151/003 , C09J151/08 , C09J2427/006 , C09J2479/086 , C23C18/08 , H01J37/32055 , H01J2237/3328
Abstract: 本发明的电介质基材表面的金属化方法，对电介质基材表面进行使用稀有气体的大气压等离子体处理，生成过氧化物自由基，使接枝剂与其反应，将与银离子以配位键相结合的官能团固定，涂布含有式(1)的银化合物(A)10～50质量％和式(2)的胺化合物(B)50～90质量％的含银组合物，进行加热、固化形成银薄膜层，通过这样的方法，在虽然没有信号传播速度的延迟或消耗电量的增加而适宜作为电介质基材但密合性极低的氟树脂的表面，也能够形成具有高密合性的金属膜。(R1：氢、－(CY2)a－CH3或－((CH2)b－O－CHZ)c－CH3、R2：－(CY2)d－CH3或－((CH2)e－O－CHZ)f－CH3。Y：氢原子或－(CH2)g－CH3、Z：氢原子或－(CH2)h－CH3。a：0～8的整数、b：1～4的整数、c：1～3的整数、d：1～8的整数、e：1～4的整数、f：1～3的整数、g：1～3的整数、h：1～2的整
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公开(公告)号：CN102172104B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN200980139450.6
申请日：2009-08-04
Applicant: 北美AGC平板玻璃公司 , 旭硝子株式会社 , AGC玻璃欧洲公司
Inventor： P·马诗威茨
IPC: H05H1/00 , H01L21/469
CPC classification number: H01J37/32596 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C2217/213 , C03C2218/153 , C23C16/402 , C23C16/45517 , C23C16/503 , C23C16/513 , H01J37/32036 , H01J37/32568 , H01J37/3266 , H01J37/32724 , H01J2237/3321 , H01J2237/3328 , H05H1/24 , H05H1/42 , H05H1/46 , H05H2001/466
Abstract: 本发明提供了对薄膜涂覆技术有用的新颖的等离子体源和使用所述等离子体源的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和提高所述方法的涂覆效率的方法。
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公开(公告)号：CN104498898A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410641340.2
申请日：2009-08-04
Applicant: 北美AGC平板玻璃公司 , 旭硝子株式会社 , AGC玻璃欧洲公司
Inventor： P·马诗威茨
IPC: C23C16/44
CPC classification number: H01J37/32596 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C2217/213 , C03C2218/153 , C23C16/402 , C23C16/45517 , C23C16/503 , C23C16/513 , H01J37/32036 , H01J37/32568 , H01J37/3266 , H01J37/32724 , H01J2237/3321 , H01J2237/3328 , H05H1/24 , H05H1/42 , H05H1/46 , H05H2001/466
Abstract: 本发明提供了一种通过等离子体增强的化学气相沉积形成涂层的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和提高所述方法的涂覆效率的方法。
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公开(公告)号：CN102172104A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN200980139450.6
申请日：2009-08-04
Applicant: 北美AGC平板玻璃公司 , 旭硝子株式会社 , AGC玻璃欧洲公司
Inventor： P·马诗威茨
IPC: H05H1/00 , H01L21/469
CPC classification number: H01J37/32596 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C2217/213 , C03C2218/153 , C23C16/402 , C23C16/45517 , C23C16/503 , C23C16/513 , H01J37/32036 , H01J37/32568 , H01J37/3266 , H01J37/32724 , H01J2237/3321 , H01J2237/3328 , H05H1/24 , H05H1/42 , H05H1/46 , H05H2001/466
Abstract: 本发明提供了对薄膜涂覆技术有用的新颖的等离子体源和使用所述等离子体源的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和提高所述方法的涂覆效率的方法。
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