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公开(公告)号:CN104583793B
公开(公告)日:2019-07-16
申请号:CN201380044203.4
申请日:2013-07-24
申请人: 皇家飞利浦有限公司
发明人: C·L·G·哈姆
IPC分类号: G01R33/385
CPC分类号: G01R33/3671 , G01R33/3614 , G01R33/3852 , G01R33/3854
摘要: 本发明涉及用于由梯度放大器(222)向磁共振成像系统(100)的梯度线圈(107、207)供应电流的方法,所述方法包括:由电源(241)将第一水平的电压供应到所述梯度放大器的输出部以在所述梯度线圈(107、207)中生成梯度电流从而以第一转换速率产生磁梯度场,其中,所述转换速率被设定到第一值,将所述转换速率重置到第二值,比较所述第二值与所述第一值,并且在所述第二值不同于所述第一值时将所述电压调节到第二水平。
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公开(公告)号:CN107874757A
公开(公告)日:2018-04-06
申请号:CN201610874137.9
申请日:2016-09-30
申请人: 通用电气公司
CPC分类号: G01R33/422 , A61B5/055 , G01R33/34076 , G01R33/3415 , G01R33/365 , G01R33/3657 , G01R33/3854 , G01R33/56 , G01R33/3621
摘要: 本发明提供了一种磁共振射频子系统及用于其的线圈去耦合装置及方法,该磁共振射频子系统包括用于接收磁共振信号的体线圈和表面线圈,还包括用于对该体线圈接收的磁共振信号进行放大的前置放大器;该线圈去耦合装置包括移相器,该移相器连接在前置放大器与体线圈之间,并用于接收外部的电压调节信号以调整其工作电压,该电压调节信号是根据当前的患者体重确定的。
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公开(公告)号:CN104337514B
公开(公告)日:2017-06-30
申请号:CN201410349902.6
申请日:2014-07-22
申请人: 西门子公司
发明人: D.格罗德兹基
IPC分类号: A61B5/055
CPC分类号: G01R33/5608 , G01R33/3854 , G01R33/54 , G01R33/56572
摘要: 本发明涉及一种用于优化磁共振成像系统的脉冲序列的方法,其中:接收在时间上与用于控制磁共振成像系统的HF发射系统的高频脉冲串匹配地待执行的、用于控制磁共振成像系统的梯度系统的计划梯度脉冲串;所确定的计划梯度脉冲串确定优化段,并且为优化段确定计划梯度矩;为所确定的计划梯度脉冲串的优化段确定可实际执行的实际梯度脉冲串;为实际梯度脉冲串确定实际梯度矩;确定实际梯度矩与计划梯度矩之间的误差梯度矩差;修改实际梯度脉冲串,使得计划梯度矩与修改后的实际梯度脉冲串的梯度矩之间的梯度矩差的模被优化。本发明还涉及一种脉冲序列优化单元以及使用这种脉冲序列优化单元运行的磁共振成像系统。
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公开(公告)号:CN103688184B
公开(公告)日:2016-12-21
申请号:CN201280023505.9
申请日:2012-05-15
申请人: 通用电气公司
IPC分类号: G01R33/34
CPC分类号: G01R33/34007 , G01R33/34046 , G01R33/3854
摘要: 本发明公开一种用于MR扫描设备的RF体线圈,所述RF体线圈包括RF支撑框架和固定到所述RF支撑框架上的RF电子器件,其中所述RF电子器件包括多个RF支腿。所述RF支撑框架进一步地包括:内结构层;外结构层;以及夹在所述内结构层与所述外结构层间的中间层,所述中间层包括粘弹性材料层,所述粘弹性材料层配置用于增加所述RF体线圈中的机械阻尼,以减小RF体线圈振动。
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公开(公告)号:CN103983928B
公开(公告)日:2016-12-07
申请号:CN201410046237.3
申请日:2014-02-10
申请人: 西门子公司
IPC分类号: G01R33/28 , G01R33/385
CPC分类号: G01R33/34 , G01R33/28 , G01R33/3854
摘要: 本发明涉及一种磁共振设备(10),该磁共振设备具有包括高频天线单元(20)的磁体单元该壳体内衬单元包括侧内衬单元(31)、前内衬单元(32)和后内衬单元(33),其中侧内衬单元(31)和/或前内衬单元(32)和/或后内衬单元(33)分别包括至少一个内衬部件(34、36、40),其中在不同的内衬部件(34、36、40)之间设有壳体内衬单元(30)的至少一个边界区域(44、45),其中壳体内衬单元(30)具有至少一个膜单元(43),该膜单元包括在声波传播和/或传递时的屏障且覆盖了两个内衬部件(34、36、40)之间的至少一个边界区域(44、45)。(11)和包围磁体单元(11)的壳体内衬单元(30),
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公开(公告)号:CN102028467B
公开(公告)日:2014-10-08
申请号:CN201010164376.8
申请日:2010-05-06
申请人: 株式会社东芝 , 东芝医疗系统株式会社
发明人: 坂仓良知
CPC分类号: G01R33/3856 , G01R33/3854 , G01R33/3873 , G01R33/421 , G01R33/4215 , G01R33/422
摘要: 磁共振成像装置,具备:在放置被检体(P)的摄像区域中产生静磁场的静磁场磁铁;设在静磁场磁铁的内侧、对放置在静磁场内的被检体(P)施加梯度磁场的主线圈;和设在静磁场磁铁与主线圈之间、屏蔽由主线圈产生的梯度磁场的屏蔽线圈。此外,在主线圈的内侧设有RF线圈侧冷却系统,其具有使制冷剂在管内流通的多个冷却管。
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公开(公告)号:CN103176151A
公开(公告)日:2013-06-26
申请号:CN201210562501.X
申请日:2012-12-21
申请人: 西门子公司
IPC分类号: G01R33/385
CPC分类号: G01R33/44 , G01R33/28 , G01R33/3854 , G01R33/4215
摘要: 本发明涉及一种用于降低带有梯度系统(100)的磁共振成像系统内的机械振动的方法,该梯度系统(100)具有梯度线圈体(200)和完全地或部分地包围了梯度线圈体(200)的导电外壳(150),其中方法包括如下步骤:确定磁共振成像系统(10)内的梯度线圈体(200)的机械固有振动模式(s);确定对此固有振动模式(s)的激励力分量(f);确定梯度系统(100)的在磁共振成像系统运行中产生导致激励力分量(f)的洛伦兹力分量(l)的导电区域;修改确定的导电区域,使得尽可能低的洛伦兹力分量(l)与确定的激励力分量(f)一致。
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公开(公告)号:CN101571577B
公开(公告)日:2013-05-29
申请号:CN200910137758.9
申请日:2009-04-29
申请人: 西门子公司
IPC分类号: G01R33/36 , G01R33/385
CPC分类号: G01R33/385 , G01R33/288 , G01R33/3854
摘要: 本发明涉及一种用于连接磁共振设备中的梯度电流馈线(GS1、GS2)的装置。一块电绝缘连接板(VP)具有至少一个连接装置(VE1)。该连接装置(VE1)被设计用于将第一梯度电流馈线(GS1)与第二梯度电流馈线(GS2)电连接,并配属于一个通过馈送的梯度电流形成一个空间方向上的梯度场的梯度线圈。所述馈送通过相互连接的梯度电流馈线(GS1、GS2)实现。基板(GP)被设计用于将连接板(VP)固定在磁共振设备的磁体外壳(MGH)上。在基板(GP)和连接板(VP)之间设有用于对连接板(VP)进行振荡阻尼的绝缘层(IS)。
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公开(公告)号:CN102956229A
公开(公告)日:2013-03-06
申请号:CN201210303353.X
申请日:2012-08-24
申请人: 通用电气公司
发明人: W.德利马
IPC分类号: G10K11/168 , B32B18/00 , B32B5/22
CPC分类号: G01R33/3854 , G10K11/168
摘要: 本发明名称为“衰减振动和声噪声的装置和方法”。提供了一种衰减振动和声噪声的装置(20)和方法。一个装置,包含由非金属材料形成的第一层(22),其具有预定水平的变形阻力,以定义基于振动频率的频率响应。该非金属材料具有由至少一个正弦曲线定义的剖面。该装置也包含定义耦合到第一层的吸收层的第二层(26)。该第二层增加了毗邻第一层的质量体。
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公开(公告)号:CN102906588A
公开(公告)日:2013-01-30
申请号:CN201180024821.3
申请日:2011-05-13
申请人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人: J·A·奥弗韦格
IPC分类号: G01R33/385
CPC分类号: G01R33/385 , G01R33/3854 , G01R33/4215
摘要: 一种磁共振成像磁体组件(100)包括:-磁体(102),其适于产生主磁场以使位于成像体积(504)内的对象(502)的磁性核自旋对准;-梯度线圈(103),其用于产生梯度磁场以对成像体积内的核自旋发射的磁共振信号进行空间编码,其中,该梯度线圈适于被安装在磁体中,其中,该梯度线圈包括:第一梯度线圈区段(112),其中,该第一梯度线圈区段包括第一刚性元件(113),第二梯度线圈区段(114),其中,该第二梯度线圈区段还包括第二刚性元件(115),连接元件(116、300、302、304、400),其用于联接两个半部分的梯度线圈,其中,该连接元件包括弹性材料(116),其中,该弹性材料与第一刚性元件和第二刚性元件相接触。
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