一种水晶膜及其镀膜工艺

    公开(公告)号:CN103556199A

    公开(公告)日:2014-02-05

    申请号:CN201310362311.8

    申请日:2013-08-19

    IPC分类号: C25D9/08

    摘要: 本发明提出了一种水晶膜及其镀膜工艺,属于外装喷涂镀膜领域。该镀膜方法包括以下步骤:将温水通入陶瓷磁芯后电离,得到镀膜剂和活性水的步骤;将镀膜剂和活性水按照一定比例均匀混合,得到水晶镀膜液的步骤;将水晶镀膜液通过高压冲洗机喷射到待处理物表面,析出玻璃成分的步骤;玻璃成分与带负电荷的待处理物表面结和,同时和空气中的水分发生反应、自然固化、形成水晶膜的步骤。本发明水晶膜为纯无机材料,不易被氧化,延长漆膜寿命2~3倍,膜厚度为30~40纳米,具有极好的亲水性能,能大幅减少灰尘、生物的附着能力。

    一种镜片生产用机械臂
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115847483A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202211541105.9

    申请日:2022-12-02

    摘要: 本发明公开了一种镜片生产用机械臂,包括安装座,所述安装座的上端设置有旋转底座,所述旋转底座的上端固定有支架,所述支架的内壁通过轴承转动连接有第一转杆,所述第一转杆的周向侧壁姑都有偏转块,所述支架的端部固定有第一旋转电机,所述第一旋转电机的主轴贯穿至支架内部并与第一转杆端部固定,所述偏转块的前端开设有安装槽,所述安装槽的内壁通过轴承转动连接有第二转杆。优点在于:通过在两个移动块的上下端设置呈L型的限位块,能够实现对镜片上下端的限位支撑,结合多个吸盘与镜面端面的吸附,能够使得镜片转运的稳定性更好,可避免较大较重镜片的滑动,避免造成干涉,方便镜片的精确转运使用。

    DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法及调整底盘

    公开(公告)号:CN103147070A

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201110400924.7

    申请日:2011-12-06

    摘要: 本发明提供一种DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法及调整底盘,该方法包括以下步骤:将待沉膜的工件至于金属材质制作的调整底盘上并与该调整底盘相配合,且所述调整底盘暴漏的周侧面与所述工件的待沉膜表面之间形成连续的过渡;将所述工件及调整底盘放置于真空电场环境中;在所述工件的待沉膜表面及调整底盘暴漏的周侧面沉积DLC膜层;将沉积有DLC膜的工件从所述调整底盘上取下即完成了对所述工件的DLC沉膜。本发明通过在待沉膜工件的底部托起该调整底盘改变待沉膜工件下部边缘的电场,使得原来分布在其下边缘的不均匀电场变得均匀,从而改变沉积在整个工件外表面的DLC膜的均匀性,解决了现有技术中成品件下边缘脱膜的技术问题。

    一种光学镜片制造加工系统

    公开(公告)号:CN112264866B

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202011156080.1

    申请日:2020-10-26

    发明人: 倪娅丹 高亚芳

    摘要: 本发明涉及一种光学镜片制造加工系统,包括机台、用于竖直输送圆形镜片的自动送料机构、用于水平推送圆形镜片的推料机构、卸料托板机构、前挡定位组件、倒角机构和下压机构;本发明可通过设置机构的相互配合完成镜片的自动向上输送,自动水平推送、自动倒角定位、自动倒角加工和自动卸料的一系列连续化自动加工操作,代替了传统的人工加工方式,节约了人工成本,大大提高了加工处理的效率,加工精度可控、统一,大大提高了整体的加工质量。

    一种黑膜的制备方法以及黑膜、电子产品

    公开(公告)号:CN118166318A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202410285018.4

    申请日:2024-03-13

    发明人: 曹军生 陈炳喜

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/06 C23C14/10

    摘要: 本申请适用材料技术领域,提供一种黑膜的制备方法以及黑膜、电子产品,包括:在硅材料上同时充入氢气、氩气以及氮气,以使硅材料的折射率保持在4.0‑4.3/550nm之间,且消光系数保持在0.24‑0.62/550nm之间,得到成膜材料,并利用该成膜材料进行成膜处理,以在经预热处理后的基体上方形成多层硅氮氢层与多层二氧化硅层相互交替堆叠的黑膜叠层结构。通过本申请方法可制备得到可见光低透、近红外高透的功能性装饰一体亮黑膜,其中,基于成膜材料的配置结合磁控溅射机纯镀膜条件的控制,可有效提高膜层附着力,实现单面一次镀膜可见光400‑700nm波段平均透射率小于1%,近红外940nm透射率可达93%以上。

    一种消影弥散薄膜制备系统及工艺

    公开(公告)号:CN116282856A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310344339.2

    申请日:2023-04-03

    摘要: 本发明公开了一种消影弥散薄膜制备系统,包括:操作台;模压机构,所述模压机构用于挤压镜片成型;冷加工机构,所述冷加工机构用于对成型镜片的表面、形状进行加加工,提高成型镜片的硬度和强度;刻蚀机构,所述刻蚀机构用于对成型镜片的表面进行刻蚀加工;清洗机构,所述清洗机构用于对刻蚀加工后的镜片进行清洗;镀膜机构,所述镀膜机构用于在镜片表面镀制多层宽带超低反射薄膜;切割机构,所述切割机构用于将镜片切割成所需的尺寸。本发明将表面刻蚀技术应用于凹凸球面镜片上,可以消除重影,提升成像质量及清晰度,将超宽带低反射薄膜与刻蚀层相结合制成消影弥散层,可以消除重影问题,且相比较与传统的工艺方法,节约了产品成本。

    一种用于柔性基底沉积薄膜的弹性夹具及其使用方法

    公开(公告)号:CN112080730B

    公开(公告)日:2022-06-10

    申请号:CN202010896820.9

    申请日:2020-08-31

    IPC分类号: C23C14/50

    摘要: 本发明公开了一种用于柔性基底沉积薄膜的弹性夹具,包括底板,底板上设置有凹槽,凹槽一端设置有固定装置,另一端设置有螺杆,并且凹槽内设置有可自由移动的滑动装置;滑动装置一侧通过弹簧与固定装置连接,螺杆通过螺孔接入凹槽内,与滑动装置另一侧固定连接;固定装置包括第一滑块、上固定板和下固定板,第一滑块设置于凹槽内,螺栓依次穿过上固定板、下固定板、第一滑块实现上固定板与下固定板之间的紧固连接;上固定板底面与下固定板顶面相对位置均设置有胶带贴敷区,胶带贴敷区位于远离弹簧一侧。本发明公开的一种用于柔性基底沉积薄膜的弹性夹具,用于固定与拉伸柔性基底,提高柔性基底均匀性。

    一种用于柔性基底沉积薄膜的弹性夹具及其使用方法

    公开(公告)号:CN112080730A

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN202010896820.9

    申请日:2020-08-31

    IPC分类号: C23C14/50

    摘要: 本发明公开了一种用于柔性基底沉积薄膜的弹性夹具,包括底板,底板上设置有凹槽,凹槽一端设置有固定装置,另一端设置有螺杆,并且凹槽内设置有可自由移动的滑动装置;滑动装置一侧通过弹簧与固定装置连接,螺杆通过螺孔接入凹槽内,与滑动装置另一侧固定连接;固定装置包括第一滑块、上固定板和下固定板,第一滑块设置于凹槽内,螺栓依次穿过上固定板、下固定板、第一滑块实现上固定板与下固定板之间的紧固连接;上固定板底面与下固定板顶面相对位置均设置有胶带贴敷区,胶带贴敷区位于远离弹簧一侧。本发明公开的一种用于柔性基底沉积薄膜的弹性夹具,用于固定与拉伸柔性基底,提高柔性基底均匀性。

    一种功能性装饰黑膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN117887370A

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202410062095.3

    申请日:2024-01-16

    摘要: 本发明公开了一种功能性装饰黑膜及其制备方法。本发明提供的功能性装饰黑膜,包括背胶层和基材层,所述背胶层是在基材层一侧涂覆胶黏剂;所述基材层包括以下重量份数的原料:PET树脂100份,抗氧剂2‑3份,热稳定剂0.5‑2份,改性聚丙烯酸酯5‑8份,润滑剂0.1‑1份,改性二氧化硅15‑20份,固化剂2‑4份,黑色色粉3‑5份。本发明提供的功能性装饰黑膜,首先,改性二氧化硅的加入,使薄膜在可见光下具有较低的透过率,在近红外光下具有较高的透过率;其次,改性聚丙烯酸酯提高了薄膜的耐碱性和耐水性。因此,本发明提供的黑膜能够应用于军工产品、汽车雷达、安防、电子消费品、机器人以及无人机上,实现近红外下隐形。

    DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法及调整底盘

    公开(公告)号:CN103147070B

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:CN201110400924.7

    申请日:2011-12-06

    摘要: 本发明提供一种DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法及调整底盘,该方法包括以下步骤:将待沉膜的工件至于金属材质制作的调整底盘上并与该调整底盘相配合,且所述调整底盘暴露的周侧面与所述工件的待沉膜表面之间形成连续的过渡;将所述工件及调整底盘放置于真空电场环境中;在所述工件的待沉膜表面及调整底盘暴露的周侧面沉积DLC膜层;将沉积有DLC膜的工件从所述调整底盘上取下即完成了对所述工件的DLC沉膜。本发明通过在待沉膜工件的底部托起该调整底盘改变待沉膜工件下部边缘的电场,使得原来分布在其下边缘的不均匀电场变得均匀,从而改变沉积在整个工件外表面的DLC膜的均匀性,解决了现有技术中成品件下边缘脱膜的技术问题。