-
公开(公告)号：CN110718487B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN201910992532.0
申请日：2016-06-20
申请人： 株式会社思可林集团
摘要： 本发明的基板处理装置一边抑制残留处理液进入器件区域一边处理上表面周缘部，具有：基板保持部，将基板保持为大致水平，围绕规定旋转轴旋转，旋转机构，使基板保持部围绕旋转轴旋转，处理液喷出部，以使液流接触以旋转轴为中心旋转的基板的上表面周缘部的旋转轨迹中的一部分的着落位置的方式喷出处理液的液流，气体喷出部，从上方朝向旋转轨迹中的着落位置的基板的旋转方向的上游侧的第一位置喷出非活性气体的第一气流，使第一气流从第一位置朝向基板的周缘，从上方朝向旋转轨迹中的第一位置的基板的旋转方向的上游侧的第二位置喷出非活性气体的第二气流，使第二气流从第二位置朝向基板的周缘；第二气流喷出时的动能小于第一气流喷出时的动能。
-
公开(公告)号：CN110137107B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN201910393352.0
申请日：2016-02-04
申请人： 株式会社思可林集团
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种处理基板的基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的基板处理方法。该基板处理装置的顶板在第一位置由相向构件保持部保持，在第二位置由基板保持部保持，并且与基板保持部一起旋转。就基板处理装置而言，通过控制部控制第一处理液供给部、第二处理液供给部以及喷嘴移动机构，在第一处理液喷嘴位于顶板的被保持部内的供给位置的状态下，经由相向构件开口向基板供给第一处理液，第一处理液喷嘴从供给位置移动至退避位置。然后，第二处理液喷嘴从退避位置移动至供给位置，经由相向构件开口向基板供给第二处理液。这样，与从一个处理液喷嘴依次供给多种处理液的情况相比，能够抑制或者防止产生多种处理液的混合液。
-
公开(公告)号：CN105938807B
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201610124432.2
申请日：2016-03-04
申请人： 株式会社思可林集团
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种能够使基板的面内温度分布均匀的热处理装置。从多个卤素灯(HL)对在腔室内由保持部保持的半导体晶片(W)照射卤素光而进行加热。在卤素灯(HL)与半导体晶片(W)之间，设置着由不透明石英形成的圆筒形状的遮光体(21)及圆环形状的遮光部件(25)。遮光部件(25)的外径小于遮光体(21)的内径。从卤素灯(HL)出射并透过产生在遮光体(21)的内壁面与遮光部件(25)的外周之间的间隙的光照射在容易产生温度下降的半导体晶片(W)的周缘部。另一方面，朝向过热区域的光被遮光部件(25)遮蔽，所述过热区域在仅设置遮光体(21)时产生在半导体晶片(W)的面内且温度比其他区域高。
-
公开(公告)号：CN105449157B
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201510551275.9
申请日：2015-09-01
申请人： 株式会社思可林集团
摘要： 本发明提供一种烘干装置、涂敷膜形成装置以及烘干方法，能够一边限制需要的温度计的数量，一边高精度地判断烘干炉内的温度是否达到目标温度。该烘干装置具有向烘干炉的内部供给热风的热风供给机构、从烘干炉的内部排出气体的排气机构。另外，排气机构具有：从设于烘干炉内的多个排气口延伸至烘干炉的外部的排气管道；测量排气管道内的气体的温度的排气温度计。因此，基于排气温度计的测量值，能够高精度地判断烘干炉内的温度是否达到目标温度。当开始进行烘干处理时，在排气温度计的测量值达到预先设定的基准值之后，开始运送基材。由此，能够减少基材的烘干不良。
-
公开(公告)号：CN106555160B
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201610473468.1
申请日：2016-06-24
申请人： 株式会社思可林集团
发明人： 大泽笃史
摘要： 本发明提供一种成膜装置及层叠体。在基材表面进行成膜处理，获得从一侧观察包括透明层与金属性的不透明层的层叠体。在成膜装置中，确定部基于从输入部输入的颜色信息，参照对应数据来确定成膜条件。另外，成膜条件中至少包含透明层的膜厚作为层叠体的颜色调整要素。在从所述一侧将光照射至层叠体的情况下，产生在透明层表面反射的光与在不透明层表面反射的光的干涉作用。能够通过调整透明层的膜厚使所述干涉作用发生变化，而调整层叠体的颜色。因此，能够高精度且稳定地获得所期望的颜色的层叠体。
-
公开(公告)号：CN109461685A
公开(公告)日：2019-03-12
申请号：CN201811396341.X
申请日：2015-02-23
申请人： 株式会社思可林集团
发明人： 吉田武司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/02
摘要： 基板处理装置(1)包括：具有上部开口(222)的腔室本体(22)；具有下部开口(232)的腔室盖部(23)；位于腔室盖部(23)的盖内部空间(231)的遮蔽板(51)。遮蔽板(51)的径方向的尺寸比下部开口(232)的径方向的尺寸大。腔室本体(22)的上部开口(222)通过腔室盖部(23)而被覆盖，从而形成使基板(9)容纳在内部的腔室体(21)。在基板处理装置(1)中，在基板(9)被移入而形成腔室体(21)之前，在遮蔽板(51)与下部开口(232)重合的状态下，从气体供给部(812)所供给的气体被填充至腔室盖部(23)的盖内部空间(231)中。由此，形成腔室体(21)后，腔室体(21)内迅速被气体所充满，从而能够实现所期望的低氧气气氛。
-
公开(公告)号：CN106252258B
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201610388454.X
申请日：2016-06-02
申请人： 株式会社思可林集团
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 一种基板处理装置，在喷嘴间隙的上方的处理液喷嘴的周围设置有迷宫式密封部，通过向迷宫式密封部供给密封气体，使得喷嘴间隙被密封，以使该喷嘴间隙与外部空间隔开。其结果，能够抑制外部空间的气体经由喷嘴间隙进入处理空间。另外，在顶板的相向构件凸缘部的上表面设置有第一凹凸部，在相向构件移动机构的保持部主体的下表面设置有第二凹凸部。并且，在顶板仅位于第二位置的状态(即，形成处理空间的状态)下，通过在第一凹凸部及第二凹凸部的一方的凹部内配置另一方的凸部，形成迷宫式密封部，其中所述一方的凹部与所述另一方的凸部之间存在间隙。由此，能够实现基板处理装置的扁平化。
-
公开(公告)号：CN105911065B
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201511010121.5
申请日：2015-12-29
申请人： 株式会社思可林集团
发明人： 井上学
IPC分类号： G01N21/89
摘要： 本发明提供一种图案检查装置及图案检查方法。图案检查装置包括孔部信息获取部，获取表示一个目视孔部的目视孔部区域的中心的坐标；线方向确定部，确定与形成有目视孔部的目视焊盘相连接的目视线以目视焊盘为起点而延伸的线方向；判别点获取部，将检查图像中，作为目视孔部区域的边缘、且包含于配线图案区域中的部分设为对象边缘，并获取最靠近自目视孔部区域的中心向线方向延伸的线与目视孔部区域的边缘相交的位置的、对象边缘上的点而作为判别点；及颈部缺陷检测部，检测目视孔部所致的颈部缺陷。藉此，可容易地检测印刷基板的颈部缺陷。
-
公开(公告)号：CN105895561B
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201610091276.4
申请日：2016-02-18
申请人： 株式会社思可林集团
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种基板处理装置，包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平一边使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转；处理液供给系统，将包括通过混合来发热的第一液体以及第二液体的处理液向由所述基板保持单元保持的基板供给。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。作为药液(SPM)的成分的之一的过氧化氢从成分液流路向上游流路供给。包括多个第一流量调整阀以及多个第二流量调整阀的混合比变更单元针对各上游流路分别独立变更从多个喷出口喷出的药液所包含的硫酸以及过氧化氢的混合比。
-
公开(公告)号：CN108573859A
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201810587698.X
申请日：2014-08-20
申请人： 株式会社思可林集团
发明人： 藤井达也
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/67 , H01L21/687
摘要： 本发明的基板处理方法包括：基板旋转步骤，使基板围绕规定的铅垂轴线以第一旋转速度旋转；液密状态形成步骤，与所述基板旋转步骤并行执行，一边使第一相向面隔开规定的第一间隔与正在旋转的所述基板的下表面相向，一边从与所述基板的下表面相向的下表面喷嘴的处理液喷出口喷出处理液，利用处理液使所述基板的下表面与所述第一相向面之间的空间形成液密状态；液密状态解除步骤，在所述液密状态形成步骤后，通过使所述基板的下表面与所述第一相向面彼此远离，来解除所述基板的下表面与所述第一相向面之间的空间的液密状态。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
165 条记录 (耗时 0.046 秒)
