一种新型吸附材料和低含量钯废液回收方法

    公开(公告)号:CN116814971A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202310755294.8

    申请日:2023-06-26

    发明人: 郑成 黄军浩

    摘要: 本发明属于贵金属回收技术领域,涉及一种新型吸附材料和低含量钯废液回收方法,新型吸附材料由碳素粉料氧化、亚硫酸钠改性和超声处理制成。一种低含量钯废液回收方法,利用新型吸附材料吸收,然后焚化研磨得到钯粉。本方法通过将氧化石墨烯进行磺化改性,提高了其对钯离子的螯合作用力,使其吸附钯离子的能力大大提升,使其对钯离子的吸附可以在10‑25min内完成,焚化后钯以氧化亚钯的形式存在,其他部分转化成可挥发气体离开,所以能够得到纯度90%以上的氧化亚钯。

    一种低含氧量银蒸镀材的制备方法

    公开(公告)号:CN116586909A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202310587917.5

    申请日:2023-05-24

    IPC分类号: B23P15/00

    摘要: 本发明属于蒸发镀材技术领域,涉及一种低含氧量银蒸镀材的制备方法,步骤包括:S1、铸锭,S2、车削,S3、保温,S4、成型,S5、钢珠研磨,S6、超声清洗和S7、脱水干燥。本方法能够通过车削去除银锭表面的氧化层,成型为银蒸镀材后再利用钢珠研磨去除银蒸镀材表面的少量氧化层,然后对表面进行超声清洗,得到氧含量低于10ppm的银蒸镀材,避免了其使用时因为氧气释放带来的银液喷溅问题,降低了材料的浪费。

    一种长型陶瓷旋转靶材的一体成型焊接方法

    公开(公告)号:CN116586808A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202310734526.1

    申请日:2023-06-20

    IPC分类号: B23K31/02 B23K103/00

    摘要: 本发明属于旋转靶材技术领域,涉及一种长型陶瓷旋转靶材的一体成型焊接方法,步骤包括:预热、布线、熔融、焊接、冷却和表面处理。本方法先将背管和陶瓷管靶预热,利用金属线在背管的外壁与陶瓷管靶的内壁之间形成厚度一致的环隙并将环隙分隔成若干流道,利用真空压力使焊料由下至上填充到流道之中,然后焊接固定,得到了侧面无焊缝的一体式大型长型管靶,焊合率大于95%,既保证了焊接的稳定性,防止了靶材的碎裂,又避免了因焊缝的存在而影响溅镀的质量。

    一种提高磁控溅射镀膜用靶材使用率的方法

    公开(公告)号:CN103668098B

    公开(公告)日:2016-10-05

    申请号:CN201410001386.8

    申请日:2014-01-02

    IPC分类号: C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种提高磁控溅射镀膜用靶材使用率的方法,包括以下几个步骤:(1)根据残靶的溅射跑道,在所述残靶的冲蚀曲面内使用线切割机线切割残靶,得到多片拼接靶材;切割线的选取方法为:选择宽度垂直线,所述切割线与宽度垂直线的夹角在0~30°之间,所述宽度垂直线在残靶使用最深处且与残靶的宽度方向垂直;(2)对每个所述拼接靶材进行清洁;(3)将清洁后的拼接靶材拼接在一起,并将拼接后的靶材与背板焊合,焊合后再次装机进行溅射镀膜。本发明将磁控溅射镀膜用靶材的使用率提高至40%,同时,降低了生产成本,减少了资源浪费,本发明尤其适用于贵重金属和氧化物靶材。

    一种溅射镀膜用金靶材的生产方法

    公开(公告)号:CN103726024B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201410001334.0

    申请日:2014-01-02

    IPC分类号: C23C14/34 B22D7/00 B22D7/12

    摘要: 本发明公开了一种溅射镀膜用金靶材的生产方法,包括以下几个步骤:(1)将原材料放在感应炉中熔炼,使原材料完全熔化形成液体,对液体进行快速浇注形成金铸锭,金铸锭安装在石墨浇注底板上;(2)在金铸锭的外围放置石墨注模,然后烘烤石墨注模,并在石墨浇注底板下放置耐热棉;(3)将烘烤后的所述石墨注模抬起至金铸锭的中下部,维持60~120S,然后进行锻造加工,即形成金靶材。本发明通过浇铸工艺,提高浇注温度,降低烘烤石墨注模温度,快速浇注,增加了形核数量;在石墨浇注底板下放置耐热棉保温,可使铸锭上下温度一致,达到均匀化晶粒细化目的,平均尺寸小于50um,晶粒标准偏差

    一种提高磁控溅射镀膜用靶材使用率的方法

    公开(公告)号:CN103668098A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201410001386.8

    申请日:2014-01-02

    IPC分类号: C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种提高磁控溅射镀膜用靶材使用率的方法,包括以下几个步骤:(1)根据残靶的溅射跑道,在所述残靶的冲蚀曲面内使用线切割机线切割残靶,得到多片拼接靶材;切割线的选取方法为:选择宽度垂直线,所述切割线与宽度垂直线的夹角在0~30°之间,所述宽度垂直线在残靶使用最深处且与残靶的宽度方向垂直;(2)对每个所述拼接靶材进行清洁;(3)将清洁后的拼接靶材拼接在一起,并将拼接后的靶材与背板焊合,焊合后再次装机进行溅射镀膜。本发明将磁控溅射镀膜用靶材的使用率提高至40%,同时,降低了生产成本,减少了资源浪费,本发明尤其适用于贵重金属和氧化物靶材。

    一种靶材生产用锻压机
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112371892B

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202011279958.0

    申请日:2020-11-16

    发明人: 刘耀文 黄军浩

    IPC分类号: B21J13/08

    摘要: 本发明公开了一种靶材生产用锻压机,其技术方案是:包括支撑台,所述支撑台内部设有夹持机构,所述夹持机构延伸出支撑台顶部和底部,所述支撑台顶部固定设有支撑板,所述支撑板顶部固定设有箱体,所述箱体内部设有转动机构,所述转动机构延伸出箱体顶部和底部,所述夹持机构包括第一电机,本发明的有益效果是:通过第一电机等结构来带动夹板移动,可通过夹板来对靶材进行固定,避免了靶材会出现晃动的问题,保证了锻压机的正常工作,通过转动机构的设计,可通过第二电机、第一往复丝杆和第二往复丝杆等结构的设计,可以调节夹板夹持靶材的高度,便于对不同高度的靶材进行夹持,扩大了本发明的适用范围。

    一种银钛合金靶材防开裂轧制工艺

    公开(公告)号:CN106893989B

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201611243155.3

    申请日:2016-12-29

    IPC分类号: C23C14/35

    摘要: 本发明属于金属轧制技术领域,特别涉及一种银钛合金靶材防开裂轧制工艺,将银和钛进行浇铸铸锭,然后通过一道以上的热轧工序轧制成型;其中第一道热轧时,退火温度为200~800℃,保温时间为1~3小时,轧制方向垂直于熔汤浇铸方向,轧制变形量为10~30%;后道热轧时,退火温度为200~800℃,保温时间为0.5~3小时,轧制方向垂直于熔汤浇铸方向,轧制变形量为10~30%。本发明工艺能使银钛合金靶材热轧的开裂率下降到0%,避免了轧制失败带来的报废支出,节省了轧制成本。

    一种靶材组件及其制备方法

    公开(公告)号:CN103726025A

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201410001378.3

    申请日:2014-01-02

    IPC分类号: C23C14/34 B23K1/00 B23K1/20

    摘要: 本发明公开了一种靶材组件及其制备方法,靶材组件包括背板和靶材,背板的焊合表面设有低熔点的背板焊料层,靶材的焊合表面从内到外依次设有等离子喷涂界面层和低熔点的靶材焊料层;背板焊料层与靶材焊料层软焊接。靶材组件的制备方法,包括在背板的焊合表面涂覆背板焊料层,并加热背板焊料层使其成为熔融状态;在靶材的焊合表面用砂纸打磨;在靶材的砂纸打磨表面利用等离子喷涂方法喷涂等离子喷涂界面层;在确定无等离子喷涂界面层脱落后,在等离子喷涂界面层上涂覆靶材焊料层,并加热靶材焊料层使其成为熔融状态;将背板上熔融状态的背板焊料层与靶材上熔融状态的靶材焊料层进行软焊接合。使得靶材组件具有较佳的接合附着能力。

    一种旋转靶材的表面处理装置

    公开(公告)号:CN112276731B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202011281432.6

    申请日:2020-11-16

    发明人: 刘耀文 黄军浩

    摘要: 本发明公开了一种旋转靶材的表面处理装置,其技术方案是:包括支撑板,所述支撑板顶部设有打磨机构,所述支撑板底部设有收集机构;所述打磨机构包括第一固定板和第二固定板,所述第一固定板和第二固定板分别固定设于支撑板顶部两侧,所述第一固定板一侧设有夹持组件,所述第二固定板一侧设有电机,本发明的有益效果是:通过打磨机构的设计,可以通过往复丝杆等结构带动打磨片来回移动,通过转动板等结构的设计可以使打磨片转动,即可通过打磨片对靶材的表面进行处理,提高了靶材表面的光滑度,避免了靶材的表面存在较多的车刀纹的问题,使得成型后的靶材拥有良好的外观,保证了靶材的正常使用。