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公开(公告)号：CN101529510A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038897.5
申请日：2007-12-20
Applicant: TDK股份有限公司
CPC classification number: G11B7/00736 , G11B7/24038 , G11B2007/0013
Abstract: 本发明提供一种光记录介质以及光记录介质的记录再现方法。在与光记录介质1的光入射表面相距90μm～110μm的位置配置基本记录层20，将记录层配置成与基本记录层平行，在基本记录层或记录层上至少记录有记录层的位置信息。由此，不仅能够提高光记录介质的记录层的设计自由度，而且能够正确地进行记录再现。
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