-
公开(公告)号:CN118076211A
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202410413558.6
申请日:2018-10-31
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种自旋轨道转矩型磁化旋转元件。本实施方式的自旋轨道转矩型磁化旋转元件包括沿第一方向延伸的自旋轨道转矩配线和位于所述自旋轨道转矩配线的一个面的第一铁磁性层,所述自旋轨道转矩配线的侧面和所述第一铁磁性层的侧面在任一侧面形成连续的倾斜面。本发明在制作时能够抑制杂质再附着,使写入电流容易流动。
-
公开(公告)号:CN109786544A
公开(公告)日:2019-05-21
申请号:CN201811283848.4
申请日:2018-10-31
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种自旋轨道转矩型磁化旋转元件。本实施方式的自旋轨道转矩型磁化旋转元件包括沿第一方向延伸的自旋轨道转矩配线和位于所述自旋轨道转矩配线的一个面的第一铁磁性层,所述自旋轨道转矩配线的侧面和所述第一铁磁性层的侧面在任一侧面形成连续的倾斜面。本发明在制作时能够抑制杂质再附着,使写入电流容易流动。
-
-
公开(公告)号:CN111052398B
公开(公告)日:2023-09-29
申请号:CN201880052140.X
申请日:2018-08-31
Applicant: TDK株式会社
IPC: H01L29/82 , H10B61/00 , H01L27/105 , H10N50/10
Abstract: 本实施方式涉及的自旋轨道转矩型磁化反转元件具有:铁磁性金属层,其磁化方向发生变化;自旋轨道转矩配线,其沿与上述铁磁性金属层的层叠方向交叉的第一方向延伸,并与上述铁磁性金属层接合;和两个通孔配线,其从上述自旋轨道转矩配线的与上述铁磁性金属层相反侧的表面沿交叉的方向延伸,并与半导体电路连接,上述两个通孔配线的上述第一方向的通孔间距离比上述铁磁性金属层的上述第一方向的宽度短。
-
公开(公告)号:CN118076210A
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202410413492.0
申请日:2018-10-31
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种自旋轨道转矩型磁化旋转元件。本实施方式的自旋轨道转矩型磁化旋转元件包括沿第一方向延伸的自旋轨道转矩配线和位于所述自旋轨道转矩配线的一个面的第一铁磁性层,所述自旋轨道转矩配线的侧面和所述第一铁磁性层的侧面在任一侧面形成连续的倾斜面。本发明在制作时能够抑制杂质再附着,使写入电流容易流动。
-
公开(公告)号:CN109786544B
公开(公告)日:2024-04-30
申请号:CN201811283848.4
申请日:2018-10-31
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种自旋轨道转矩型磁化旋转元件。本实施方式的自旋轨道转矩型磁化旋转元件包括沿第一方向延伸的自旋轨道转矩配线和位于所述自旋轨道转矩配线的一个面的第一铁磁性层,所述自旋轨道转矩配线的侧面和所述第一铁磁性层的侧面在任一侧面形成连续的倾斜面。本发明在制作时能够抑制杂质再附着,使写入电流容易流动。
-
公开(公告)号:CN111052398A
公开(公告)日:2020-04-21
申请号:CN201880052140.X
申请日:2018-08-31
Applicant: TDK株式会社
IPC: H01L29/82 , H01L21/8239 , H01L27/105 , H01L43/08
Abstract: 本实施方式涉及的自旋轨道转矩型磁化反转元件具有:铁磁性金属层,其磁化方向发生变化;自旋轨道转矩配线,其沿与上述铁磁性金属层的层叠方向交叉的第一方向延伸,并与上述铁磁性金属层接合;和两个通孔配线,其从上述自旋轨道转矩配线的与上述铁磁性金属层相反侧的表面沿交叉的方向延伸,并与半导体电路连接,上述两个通孔配线的上述第一方向的通孔间距离比上述铁磁性金属层的上述第一方向的宽度短。
-
-
-
-
-
-