公开(公告)号：CN1165971C

公开(公告)日：2004-09-08

申请号：CN98122796.1

申请日：1998-12-09

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 小林宽二 ,  工藤纯 ,  吉原信也 ,  山口正雄

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/12

CPC classification number: H01L21/67057 ,  B08B1/04 ,  B08B3/12 ,  H01L21/67046 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明能高效率地、且有效地进行刷洗和超声波清洗。在用清洗装置20清洗晶片11时，将清洗液30容纳在清洗槽31内，在将刷子33a、33b打开的状态下，将晶片11插入清洗槽31内，将其保持在摇动·旋转滚子32a～32d上。此后，将刷子33a、33b闭合，用刷子33a、33b夹持晶片11。其次使刷子33a、33b旋转，还用摇动·旋转滚子32a～32d等使晶片11摇动及旋转，再用超声波发生装置36对清洗槽31内的清洗液30附加超声波。

公开(公告)号：CN1219758A

公开(公告)日：1999-06-16

申请号：CN98122796.1

申请日：1998-12-09

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 小林宽二 ,  工藤纯 ,  吉原信也 ,  山口正雄

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/12 ,  B08B1/00

CPC classification number: H01L21/67057 ,  B08B1/04 ,  B08B3/12 ,  H01L21/67046 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明能高效率地、且有效地进行刷洗和超声波清洗。在用清洗装置20清洗晶片11时,将清洗液30容纳在清洗槽31内,在将刷子33a、33b打开的状态下,将晶片11插入清洗槽31内,将其保持在摇动、旋转滚子32a—32d上。此后,将刷子33a、33b闭合,用刷子33a、33b夹持晶片11。其次使刷子33a、33b旋转,还用摇动－旋转滚子32a—32d等使晶片11摇动及旋转,再用超声波发生装置36对清洗槽31内的清洗液30附加超声波。