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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104779132B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201510194511.6
申请日：2010-05-05
Applicant: MKS仪器公司
Inventor： 葛拉多·A·布鲁克尔 , 肯尼斯·D·凡 , 安特卫普 , G·杰佛瑞·拉司邦 , 史考特·C·海恩布希 , 麦可·N·肖特 , 巴巴拉·简·欣奇 , 列克谢·V·艾马柯夫
CPC classification number: H01J49/4245 , H01J49/0063 , H01J49/429
Abstract: 一种离子陷阱包含电极结构，其包含第一和第二相反镜面电极和其间的中心透镜，所述电极结构产生使得离子在自然振荡频率下被限制于若干轨迹的静电电位，所述限制电位为非谐的。所述离子陷阱还包含具有激励频率f的AC激励源，其在所述离子的所述自然振荡频率的约两倍的频率下激励被限制的离子，所述AC激励频率源优选地连接到所述中心透镜。在一个实施例中，所述离子陷阱包含扫描控件，其质量选择性地减小所述AC激励频率与所述离子的所述自然振荡频率的约两倍之间的频率差。
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公开(公告)号：CN106404277A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201610282044.7
申请日：2009-09-11
Applicant: MKS仪器公司
Inventor： 赖利·K·卡麦可 , 杰西·A·韦伯 , 约翰·H·亨利 , 麦可·N·史考特 , 葛拉多·A·布鲁克尔 , 肯尼斯·D·凡安特卫普
IPC: G01L21/32
Abstract: 一种测量压力的电离计，其具有发射电子的电子源，和界定电离空间的阳极。所述电离计还包含集极电极，用以收集由所述电子与气体之间的碰撞而形成的离子且基于所述收集的离子而测量压力。依据压力和压力除外的第二参数，在多个发射电平之间动态地改变所述电子源的发射电流。所述电离计还可根据存储在非易失性存储器中并由用户选择的参数来改变电离计组件的各种操作参数。
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公开(公告)号：CN102648511B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201080029456.0
申请日：2010-05-05
Applicant: MKS仪器公司
Inventor： 葛拉多·A·布鲁克尔 , 肯尼斯·D·凡安特卫普 , G·杰佛瑞·拉司邦 , 史考特·C·海恩布希 , 麦可·N·肖特 , 巴巴拉·简·欣奇 , 列克谢·V·艾马柯夫
CPC classification number: H01J49/4245 , H01J49/0063 , H01J49/429
Abstract: 一种离子陷阱包含电极结构，其包含第一和第二相反镜面电极和其间的中心透镜，所述电极结构产生使得离子在自然振荡频率下被限制于若干轨迹的静电电位，所述限制电位为非谐的。所述离子陷阱还包含具有激励频率f的AC激励源，其在所述离子的所述自然振荡频率的约两倍的频率下激励被限制的离子，所述AC激励频率源优选地连接到所述中心透镜。在一个实施例中，所述离子陷阱包含扫描控件，其质量选择性地减小所述AC激励频率与所述离子的所述自然振荡频率的约两倍之间的频率差。
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公开(公告)号：CN104779132A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201510194511.6
申请日：2010-05-05
Applicant: MKS仪器公司
Inventor： 葛拉多·A·布鲁克尔 , 肯尼斯·D·凡安特卫普 , G·杰佛瑞·拉司邦 , 史考特·C·海恩布希 , 麦可·N·肖特 , 巴巴拉·简·欣奇 , 列克谢·V·艾马柯夫
CPC classification number: H01J49/4245 , H01J49/0063 , H01J49/429
Abstract: 一种离子陷阱包含电极结构，其包含第一和第二相反镜面电极和其间的中心透镜，所述电极结构产生使得离子在自然振荡频率下被限制于若干轨迹的静电电位，所述限制电位为非谐的。所述离子陷阱还包含具有激励频率f的AC激励源，其在所述离子的所述自然振荡频率的约两倍的频率下激励被限制的离子，所述AC激励频率源优选地连接到所述中心透镜。在一个实施例中，所述离子陷阱包含扫描控件，其质量选择性地减小所述AC激励频率与所述离子的所述自然振荡频率的约两倍之间的频率差。
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公开(公告)号：CN102612641B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201080050648.X
申请日：2010-11-08
Applicant: MKS仪器公司
Inventor： 葛拉多·A·布鲁克尔 , 小肯尼斯·D·凡安特卫普
Abstract: 一种用于真空室的气体分析器包含处理电子器件，其经配置以接收质谱数据，接收所述真空室中的总压力的输入，接收来自至少一个传感器的外部输入，且使用所述质谱数据、所述真空室中的所述总压力以及来自所述至少一个传感器的所述外部输入来基于至少一个质量准则计算真空质量指数。
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